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詳細(xì)摘要： 該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，可進(jìn)行反應(yīng)濺射；用于硬質(zhì)膜，裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積；可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍...

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)，四對(duì)電極可單獨(dú)或同時(shí)蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu)，四對(duì)電極可單獨(dú)或共蒸發(fā)，樣品Φ300（max），樣品臺(tái)公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)...

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等，用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨(dú)立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設(shè)備由主腔室和預(yù)備室...

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積。可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機(jī)為雙腔室，共用高真空系統(tǒng)...

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，多層膜；主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜（耐磨、防腐、導(dǎo)電膜、絕緣膜等）的研發(fā)和小批生...

詳細(xì)摘要： 磁控濺射鍍膜機(jī)是應(yīng)用泛的PVD沉積設(shè)備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜，亦...

詳細(xì)摘要： 應(yīng)用領(lǐng)域：透射電鏡、離子探針、掃描電鏡、能譜儀分析等樣品制備，理化分析、科學(xué)研究等。主要功能：具備離子噴涂、離子濺射、離子清洗、蒸碳等功能

詳細(xì)摘要： 本儀器主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡(jiǎn)單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣的儀器。

詳細(xì)摘要： 直線式勞埃透鏡鍍制機(jī)，是為高能同步輻射光源（HEPS）研發(fā)的儀器裝備，用于制備硬X射線納米聚焦的勞埃透鏡膜層。最主要的特點(diǎn)是膜層層數(shù)多（數(shù)千層甚至更多）且膜層位...

詳細(xì)摘要： 倍增級(jí)磁控鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于光電倍增管倍增級(jí)表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實(shí)現(xiàn)對(duì)光電倍增管的倍增級(jí)基底進(jìn)行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工...

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備為高真空ITO箱式鍍膜設(shè)備，主要用于沉積AZO、GZO等系列透明導(dǎo)電膜，金屬薄膜，半導(dǎo)體薄膜等，也可用于其他功能性薄膜的沉積。

詳細(xì)摘要： Φ70x4060集熱管鍍膜生產(chǎn)線，產(chǎn)線主體Φ1500x6000水冷真空腔室4段，依次為預(yù)處理室、工藝1室、工藝2室和出樣室；產(chǎn)線配移動(dòng)式公自轉(zhuǎn)工裝架及工裝架閉環(huán)...

詳細(xì)摘要： 該設(shè)備為Φ1200x6000水冷真空腔室，配移動(dòng)式公自轉(zhuǎn)工裝架，工裝架裝載量10-20只，公自轉(zhuǎn)工裝架點(diǎn)對(duì)點(diǎn)自動(dòng)運(yùn)行；設(shè)備帶偏壓清洗及輔助沉積功能，工藝加熱溫度...

詳細(xì)摘要： 中科科美提供中高溫集熱管鍍膜整體解決方案?！　≡撛O(shè)備為太陽(yáng)能光熱產(chǎn)業(yè)提供高溫集熱管真空涂層，可在不銹鋼管上沉積選擇性吸收膜，保證其有較高的吸收率和極低的發(fā)射率。

詳細(xì)摘要： 設(shè)備可完成光電倍增管高溫真空除氣、陰極激活、陰極轉(zhuǎn)移、MCP清刷、銦封等多道關(guān)鍵制備工序，是多種運(yùn)動(dòng)方式同時(shí)存在的復(fù)雜系統(tǒng)。主要應(yīng)用于中微子探測(cè)試驗(yàn)、高能物理探...