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多靶位立式磁控濺射鍍膜機(jī)

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更新時(shí)間:2024-05-30 11:04:33瀏覽次數(shù):257

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該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜,多層膜;主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜(耐磨、防腐、導(dǎo)電膜、絕緣膜等)的研發(fā)和小批生產(chǎn)。

詳細(xì)介紹

  一、應(yīng)用領(lǐng)域:

  該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜,多層膜;主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜(耐磨、防腐、導(dǎo)電膜、絕緣膜等)的研發(fā)和小批生產(chǎn)。

  二、性能參數(shù)

  1. Φ1000x700水冷真空腔體,側(cè)開門,樣品架公自轉(zhuǎn);

  2. 頂部和側(cè)面布置有濺射靶位8個(gè);

  3. 6″直流靶6只,每只各配3KW直流電源1套;

  4. 6″射頻靶2只,各配1.5KW射頻電源1套;

  5. 系統(tǒng)配考夫曼離子源用于工件清洗;

  6. 腔室可加熱,加熱溫度300℃。

  7. 極限真空:5x10-4Pa。

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