直線式勞埃透鏡鍍制機，是為高能同步輻射光源（HEPS）研發(fā)的儀器裝備，用于制備硬X射線納米聚焦的勞埃透鏡膜層。最主要的特點是膜層層數多（數千層甚至更多）且膜層位置和厚度精度高（總位置平均誤差小于±5nm，每層的厚度誤差小于0.1nm）。為了保證每個膜層的厚度精度，采用磁控濺射技術來實現膜片的制備，其優(yōu)點是，能夠精確控制膜層厚度，重復性好，薄膜與基片結合緊密，薄膜純度高、致密性好。

　　性能參數：

　　進樣室

　　本底極限真空度<8×10-5Pa

　　腔室漏率<1×10-7Pa.L/s

　　基板加熱溫度≥500℃

　　沉積室

　　極限真空度：<8×10-6Pa

　　腔室漏率<1×10-8Pa.L/s

　　靶位個數≥9個

　　靶與樣品間距離60~100mm手動可調

　　單個電源可切換的靶位個數≥4個

　　基板加熱溫度≥200℃

　　運動系統速率穩(wěn)定性≤0.1% /300mm

　　運動系統直線度≤30μm/300mm

　　檢測室

　　極限真空度：<8×10-6Pa

　　腔室漏率<1×10-8Pa.L/s