一、應(yīng)用領(lǐng)域

　　該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機，四對電極可單獨或同時蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu)，四對電極可單獨或共蒸發(fā)，樣品Φ300(max)，樣品臺公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào);流量計控制氣體流量，滿足離子轟擊壓力要求。

　　二、性能參數(shù)

　　1. 鍍膜室尺寸：Φ450×500mm鐘罩

　　2. 鍍膜有效尺寸：Φ300mm

　　3. 離子轟擊功率：0.6kW

　　4. 恢復(fù)真空抽氣時間(min)：<30

　　5. 蒸發(fā)源數(shù)目：4對，帶電動擋板;

　　6. 蒸發(fā)源功率：2kW (可選電流、電壓控制);

　　7. 偏壓、膜厚儀、薄膜規(guī)、樣品臺加熱可選;

　　8. 工藝氣體：MFC 1路;