一、應(yīng)用領(lǐng)域

　　該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積;可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜，亦可鍍鐵磁材料。

　　二、性能參數(shù)

　　1. 極限真空壓力：8×10^-5 Pa;

　　2. 磁控靶：2只 靶直徑：Φ50，配電(氣)動擋板;

　　3. 恢復(fù)真空抽氣時間(min)：<30;

　　4. 真空室：Φ500×550;

　　5. 蒸發(fā)電極： 2對 2KW 配電(氣)動擋板;

　　6. 樣品臺：公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)：2-20rpm可調(diào);

　　7. 偏壓、膜厚儀、薄膜規(guī)、樣品臺加熱可選;