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詳細(xì)摘要： 主要在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料進(jìn)行感應(yīng)熔煉，并澆鑄到模具內(nèi)。此設(shè)備特點(diǎn)是在微負(fù)壓氣氛條件下，采用感應(yīng)加熱石墨坩堝內(nèi)的金屬，同時(shí)可以在熔煉過程中加料進(jìn)行合金...

詳細(xì)摘要： 真空熔鹽電鍍爐是一種專門設(shè)計(jì)用于在真空環(huán)境下，利用熔融鹽作為介質(zhì)進(jìn)行電鍍或化學(xué)鍍的設(shè)備。這種技術(shù)結(jié)合了真空技術(shù)和熔鹽電解的優(yōu)勢(shì)，能夠在嚴(yán)格控制的條件下實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量...

詳細(xì)摘要： 下裝載燒結(jié)爐主要應(yīng)用于無機(jī)材料退火、電子陶瓷、氧化鋯陶瓷、氧化鋁陶瓷、介質(zhì)陶瓷、磁性材料、納米材料等的高溫?zé)Y(jié)生產(chǎn)，以及特種陶瓷靶材產(chǎn)品的預(yù)燒和燒結(jié)處理，高純石...

詳細(xì)摘要： 設(shè)備簡(jiǎn)介：

詳細(xì)摘要： RTP（Rapid Thermal Processing，快速熱處理）快速蒸發(fā)燒結(jié)爐是一種專門設(shè)計(jì)用于在極短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)材料的高溫處理、燒結(jié)或薄膜沉積的設(shè)備。它通...

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詳細(xì)摘要： 此設(shè)備是針對(duì)部分原材料在燒結(jié)過程中產(chǎn)生的有毒有害物質(zhì)、焦油和脂類等污染物，以及這些物質(zhì)在正常煙囪處遇冷凝結(jié)造成的排氣擁堵問題，一種創(chuàng)新的尾氣處理裝置被設(shè)計(jì)出來。...

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詳細(xì)摘要： 1200℃旋轉(zhuǎn)擺振自動(dòng)進(jìn)出料CVD（化學(xué)氣相沉積）包覆加熱爐是一種高度集成的設(shè)備，專門設(shè)計(jì)用于在嚴(yán)格控制的條件下進(jìn)行高質(zhì)量材料表面涂層。該設(shè)備不僅具備高溫處理能...

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詳細(xì)摘要： 桌面式單路氣體質(zhì)量流量計(jì)是一種高精度、高穩(wěn)定性的氣體流量測(cè)量設(shè)備，適用于實(shí)驗(yàn)室、工業(yè)生產(chǎn)和科研等領(lǐng)域。該設(shè)備能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測(cè)和控制氣體流量，確保精確的氣體供應(yīng)和消耗...

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

詳細(xì)摘要： CW-5000AI是通過CE認(rèn)證的專業(yè)水冷設(shè)備，水箱容量為6L，水流速率可達(dá)16L/min，可以很好的冷卻加熱設(shè)備，是一款使用方便又經(jīng)濟(jì)的水冷設(shè)備。

詳細(xì)摘要： 手動(dòng)與電動(dòng)一體壓片機(jī)是一種集成了手動(dòng)和電動(dòng)兩種操作模式的多功能壓片設(shè)備。這種設(shè)計(jì)不僅提供了靈活性，還能夠在不同應(yīng)用場(chǎng)景下發(fā)揮各自的優(yōu)勢(shì)，適用于實(shí)驗(yàn)室研究、小規(guī)模...

詳細(xì)摘要： 設(shè)備簡(jiǎn)介：

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