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高溫物理性能測試爐 詳細(xì)摘要: 高溫物理性能測試爐
產(chǎn)品型號: 所在地:鄭州市 更新時(shí)間:2025-11-23 參考價(jià): 面議 在線留言 -
大容量高溫箱式爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備簡介:
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MiNi型排蠟預(yù)燒爐 詳細(xì)摘要: MiNi型排蠟預(yù)燒爐
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超聲霧化CVD系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 該技術(shù)特別適用于那些難以獲得高純氣態(tài)前驅(qū)體、或使用氣態(tài)前驅(qū)體成本過高的材料體系,是傳統(tǒng)CVD和噴霧熱解(Spray Pyrolysis)技術(shù)的重要升級。
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PECVD系統(tǒng)(集成氣化裝置) 詳細(xì)摘要: 設(shè)備簡介:
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化學(xué)氣相沉積(CVD)CVDO1200-XTIG3Z 詳細(xì)摘要: 設(shè)備簡介:
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單溫區(qū)管式爐1200℃ 詳細(xì)摘要: 設(shè)備簡介:
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箱式電堆高溫?zé)Y(jié)爐 詳細(xì)摘要: 箱式電堆高溫?zé)Y(jié)爐,集壓力控制系統(tǒng)與高溫加熱設(shè)備為一體。加熱部分:爐襯使用真空成 型高純氧化鋁聚輕材料,采用電阻絲為加熱元件。壓力部分采用高精度壓力傳感系統(tǒng),實(shí)...
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臥式氫氣還原爐 詳細(xì)摘要: 臥式氫氣還原爐是一種用于金屬氧化物還原的工業(yè)設(shè)備,廣泛應(yīng)用于冶金、化工、電子材料等領(lǐng)域。該設(shè)備通過高溫氫氣環(huán)境,將金屬氧化物還原為純金屬或合金,具有高效、節(jié)能、...
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恒壓控制系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 諾巴迪研發(fā)的恒壓控制系統(tǒng)采用的是變頻控制真空泵的原理,變頻真空泵可以自動(dòng)控制抽氣速率,進(jìn)而獲得腔室壓力的精密測量和恒壓控制,與我司的管式爐/鍍膜儀等設(shè)備相結(jié)合,...
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立式淬火爐 詳細(xì)摘要: 設(shè)備簡介:
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立式淬火爐1500℃ 1700℃ 詳細(xì)摘要: 設(shè)備簡介:
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1500℃(80L)超大容量箱式爐 詳細(xì)摘要: 1500℃(80L)超大容量箱式爐馬弗爐是一種高性能的高溫加熱設(shè)備,專為實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)應(yīng)用中需要在高溫條件下進(jìn)行材料處理、實(shí)驗(yàn)研究及生產(chǎn)工藝開發(fā)而設(shè)計(jì)。這款馬弗爐...
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旋轉(zhuǎn)微波加熱爐 詳細(xì)摘要: 旋轉(zhuǎn)微波加熱爐
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智能箱式爐(4L)1200℃ 詳細(xì)摘要: 設(shè)備簡介:
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迷你型FBCVD(流化床立式管式爐) 詳細(xì)摘要: 設(shè)備簡介:
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超聲霧化CVD管式爐(mist-CVD霧化化學(xué)氣相沉積Mist Chemical Vapor Deposition) 詳細(xì)摘要: 設(shè)備簡介:
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潔凈箱式氫氣還原爐 詳細(xì)摘要: 潔凈箱式氫氣還原爐是一種專門設(shè)計(jì)用于在高純度環(huán)境下進(jìn)行材料還原反應(yīng)的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于冶金、半導(dǎo)體制造、材料科學(xué)等領(lǐng)域。該設(shè)備通過精確控制氣氛條件(如真空和氫氣環(huán)...
產(chǎn)品型號: 所在地:鄭州市 更新時(shí)間:2025-11-23 參考價(jià): 面議 在線留言 -
TGA高溫真空失重和熱解系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 設(shè)備簡介:
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PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 設(shè)備簡介:
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