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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
晶圓清洗機(jī)
設(shè)備名稱：晶圓清洗機(jī)-
產(chǎn)品特點(diǎn)：
? 針對(duì)21英寸外徑或15x15英寸的基底
? 巨聲環(huán)境清洗艙（可配備去離子水, 清洗刷, 熱去離子水, 高壓去離子水, 熱氮?dú)猓?/p>
? 化學(xué)注射臂
? 帶化學(xué)噴射的可變速清洗刷
? 觸屏用戶界面
? 手動(dòng)上下載
? 安全鎖和報(bào)警器
? 占地尺寸30”D x 26”W
可選配項(xiàng)：
? 化學(xué)試劑傳送單元
? 白骨化清洗
? 臭氧發(fā)生器
? 氫化雙氧水發(fā)生器
? 高壓雙氧單元
? 硫酸氫過(guò)氧化物
? 紅外加熱
? 雙氧水循環(huán)裝置
? 機(jī)械手上下載單元
? 帶EFEM和SMIF界面的 集群系統(tǒng)
| 清洗功能 | ? 晶圓片 ? 藍(lán)寶石外延片 ? 晶圓框架上的芯片 ? 顯示面板 ? ITO膜顯示材料 ? 有圖形掩膜和無(wú)圖形掩膜 ? 掩膜坯料 ? 薄膜式掩膜 ? 接觸式掩膜 |
| 光刻處理工藝 | ? SPM剝離 ? 光刻膠涂膜 ? 光刻膠剝離工藝 |
| 刻蝕 | ? 金屬刻蝕（鋁，銅，鉻，鈦） |
| 白骨化清洗 | ? 在晶圓片上注射硫酸和雙氧水的混合液 ? 紅外加熱 ? 刷洗 ? 兆聲雙氧水清洗 ? 熱氮和甩干 |
| 去膠/剝離工藝 | ? 帶紅外加熱的NMP滴膠 ? 刷洗 ? 兆聲雙氧水清洗 ? 熱氮和甩干 |
| CMP溶液清洗 | ? 用刷洗和兆聲清洗去除CMP顆粒 ? 化學(xué)噴射臂 ? 化學(xué)噴射罐 ? 為前面和背面刷洗設(shè)計(jì)的特殊托盤(pán) ? 可調(diào)速的PVA清洗刷 ? 可調(diào)的清洗刷/晶圓接觸壓力 ? 刷式化學(xué)噴射 |
| 帶膜/不帶膜式掩膜清洗 | ? 全套清洗（無(wú)需更換保護(hù)膜） ? 全保護(hù)膜 ? 膜式掩膜清洗工藝 1) 掩膜背面清洗后 兆聲雙氧水清洗 刷式清洗 化學(xué)清洗 熱氮甩干 2)熱氮甩干 |
半導(dǎo)體設(shè)備；
，
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移動(dòng)站：晶圓清洗機(jī)-CSE
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