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連續(xù)式HIT太陽能異質(zhì)結(jié)電池HFCVD設(shè)備 測距儀 詳細(xì)摘要： 連續(xù)式HIT太陽能異質(zhì)結(jié)電池HFCVD設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2023-09-10 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
太陽能離子注入機(jī) 測距儀 詳細(xì)摘要： 太陽能離子注入機(jī)功能太陽能離子注入機(jī)用于太陽能電池片的摻雜工藝，離子注入后形成電池片發(fā)電核心-PN結(jié)
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2023-09-08 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
尾氣處理爐 詳細(xì)摘要： 一、設(shè)備用途本尾氣處理裝置主要用于擴(kuò)散爐與RIE（反應(yīng)等離子體刻蝕）、PECVD等設(shè)備的工藝廢氣的處理，達(dá)到直接排放大氣達(dá)到環(huán)保與安全排放的目的
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-11-12 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
鏈?zhǔn)綒錃鉅t 詳細(xì)摘要： 一、設(shè)備用途：主要用于金屬殼體在N2、H2氣氛條件下的高溫釬焊、退火等高溫?zé)崽幚砉に?
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-11-12 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
高真空排氣臺(tái) 詳細(xì)摘要： 一、設(shè)備用途高真空排氣臺(tái)運(yùn)用于磁控管管芯排氣工藝，是磁控管生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備，磁控管管芯抽真空至高真空（5.0*0-4Pa）通電，燈絲發(fā)熱后使得吸附在管芯內(nèi)的氣體進(jìn)...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-11-12 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
真空碳化臺(tái) 詳細(xì)摘要： 一、設(shè)備用途真空碳化臺(tái)運(yùn)用于磁控管陰極燈絲碳化工藝，是磁控管生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備，本設(shè)備為單腔室反應(yīng)碳化爐，在真空潔凈條件下，對磁控管陰極通電，通入活性氣氛C6H6(...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-11-12 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
高溫爐 詳細(xì)摘要： 高溫爐
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熱壓爐 詳細(xì)摘要： 設(shè)備特點(diǎn)：該設(shè)備加熱部分采用上下爐盤單獨(dú)控溫，壓力控制采用電機(jī)扭矩輸出和行程可調(diào)雙重控制，各部分控制模式均可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)/手動(dòng)模式
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低能離子注入機(jī) 詳細(xì)摘要： 低能離子注入機(jī)一：概述低能離子注入機(jī)可以通過離子源產(chǎn)生超低能量的離子束，在經(jīng)過二極磁鐵偏轉(zhuǎn)之后，過濾掉不同荷質(zhì)比的離子，只留下所需的離子種類和能量的離子束可以穿...
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感應(yīng)耦合等離子體刻蝕設(shè)備（ICP） 詳細(xì)摘要： 感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)產(chǎn)品性能及特點(diǎn)◆設(shè)備穩(wěn)定可靠、工藝，主要用于半導(dǎo)體制造工藝中的介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕以及金屬刻蝕工藝,也能用于太陽能電池片RIE工藝
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EB系列電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 詳細(xì)摘要： EB系列電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備產(chǎn)品介紹廣泛用于半導(dǎo)體、LED生產(chǎn)線批量生產(chǎn)，可滿足鋁、鈦、鉻、鉬、釩、鎳、銀、銦等金屬，ITO等氧化物在基片上均勻沉積薄膜的各類工藝...
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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD） 詳細(xì)摘要： 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD）產(chǎn)品介紹◆用工控機(jī)對工藝時(shí)間，溫度，氣體流量，閥門動(dòng)作，反應(yīng)室壓力實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化控制
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石墨烯、碳納米管材料CVD設(shè)備 詳細(xì)摘要： 石墨烯、碳納米管材料CVD設(shè)備石墨烯、碳納米管材料納米材料CVD設(shè)備Graphene、Nano-materialsCVD產(chǎn)品介紹該設(shè)備主要用于石墨烯、納米材料工...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-11-12 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
擴(kuò)散爐 詳細(xì)摘要： 閉管軟著陸擴(kuò)散系統(tǒng)ClosedTubeSoftLandingDiffusionFurnace產(chǎn)品介紹ProductIntroduction◆閉管磷擴(kuò)散、硼擴(kuò)散，...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-11-12 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
快速退火爐 詳細(xì)摘要： 1、溫度范圍：150-1200℃
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低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備（LPCVD） 詳細(xì)摘要： 低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備（LPCVD）產(chǎn)品介紹LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜
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