在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破精密制造瓶頸的征程中，晶片腐蝕清洗環(huán)節(jié)的潔凈度與穩(wěn)定性，直接決定芯片良率與性能。芯矽科技憑借自主研發(fā)實力，打造出適配多場景的晶片腐蝕清洗機，成為推動國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備自主可控的關(guān)鍵力量。

技術(shù)層面，該設(shè)備構(gòu)建了化學(xué)與物理協(xié)同的創(chuàng)新體系。深度融合RCA標(biāo)準(zhǔn)工藝，集成超聲波、兆聲波及等離子體清洗技術(shù)，可精準(zhǔn)靶向去除納米級顆粒、金屬離子及光刻膠殘留，即便面對深寬比超10:1的復(fù)雜結(jié)構(gòu)，仍能保障潔凈效果，適配FinFET、GAA等制程的嚴(yán)苛需求。

智能化與自動化是其核心優(yōu)勢。搭載PLC，實時監(jiān)測pH值、溫度等關(guān)鍵參數(shù)，動態(tài)優(yōu)化清洗策略，機械臂傳輸精度達±0.1mm，搭配全自動上下料與數(shù)據(jù)追溯功能，消除人工誤差，確保工藝一致性，助力產(chǎn)線良率提升至99.5%以上。

產(chǎn)品矩陣覆蓋全場景需求，單片清洗機適配12英寸制程，槽式設(shè)備滿足批量量產(chǎn)，石英專用機型支撐高純度部件清洗。同時，設(shè)備采用耐腐蝕材質(zhì)，配套廢液回收與熱回收系統(tǒng)，化學(xué)液循環(huán)利用率達85%，能耗降低30%，契合綠色制造趨勢。

目前，該設(shè)備已入駐長江存儲、中芯國際等主流產(chǎn)線，以硬核性能與本土化服務(wù)，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展注入強勁動能，成為國產(chǎn)清洗設(shè)備的之作。