芯矽科技的RCA濕法腐蝕清洗機(jī)，是國內(nèi)半導(dǎo)體濕法清洗領(lǐng)域的設(shè)備，依托自主研發(fā)的硬核技術(shù)，為芯片制造筑牢潔凈根基，助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破精密制造瓶頸。

該設(shè)備深度融合化學(xué)與物理協(xié)同清洗技術(shù)，全面集成RCA標(biāo)準(zhǔn)工藝（SC-1/SC-2）、超聲波/兆聲波、高壓噴淋及等離子體清洗等多元技術(shù)，可精準(zhǔn)靶向去除晶圓表面的納米級顆粒、金屬離子、光刻膠殘留及有機(jī)污染物，既能適配硅基晶圓，也能高效處理GaN、SiC等化合物半導(dǎo)體，即便面對高深寬比的復(fù)雜結(jié)構(gòu)，也能保障潔凈效果，契合制程的嚴(yán)苛潔凈標(biāo)準(zhǔn)。

設(shè)備核心優(yōu)勢凸顯智能化與自動化，搭載的智能控制系統(tǒng)，依托高精度傳感器與算法，對溫度、流量、試劑濃度等關(guān)鍵參數(shù)實(shí)現(xiàn)毫秒級精準(zhǔn)調(diào)控，搭配全自動上下料與全流程數(shù)據(jù)追溯功能，消除人工操作誤差，確保工藝穩(wěn)定性與一致性。模塊化設(shè)計(jì)賦予其場景適配能力，可快速響應(yīng)晶圓制造、封裝測試等多元需求，無縫銜接實(shí)驗(yàn)室研發(fā)到量產(chǎn)的全周期流程。

在性能與環(huán)保層面，設(shè)備同樣表現(xiàn)好：采用耐腐蝕特種材質(zhì)腔體，搭配廢液回收與節(jié)能系統(tǒng)，顯著降低資源消耗與排放成本；本土化服務(wù)團(tuán)隊(duì)提供全周期運(yùn)維支持，切實(shí)助力客戶降本增效。目前，產(chǎn)品已成功入駐長江存儲、中芯國際等主流產(chǎn)線，以硬核實(shí)力為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展注入強(qiáng)勁動能，成為推動國產(chǎn)設(shè)備自主可控的核心力量。