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KRI 射頻離子源 RFICP 系列伯東代理

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公司名稱伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌其他品牌
型號
所在地上海市
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
更新時間2021/12/28 14:01:45
訪問次數(shù)251

產(chǎn)品標(biāo)簽:

離子源射頻離子源中和器自動控制器離子束

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　伯東企業(yè)(上海)有限公司專業(yè)代理各國真空產(chǎn)品位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月，是日本伯東株式會社獨資設(shè)立的外商投資企業(yè)，公司注冊資金為200萬美元，到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。

　　伯東企業(yè)(上海)有限公司 ()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管)；檢漏儀，質(zhì)譜儀，真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚，保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師，多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等，具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識，并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源，HVA 高真空閥門。

　　公司一直堅持品質(zhì)*、信譽*的原則，為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過了美國UL安全認(rèn)證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001-1996環(huán)境體系認(rèn)證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本，不斷開拓進取的精神，為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團化發(fā)展。

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氦質(zhì)譜檢漏儀,分子泵,原子力顯微鏡,高低溫測試機,離子源,真空閥門

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上海伯東美國 KRI 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻源 RFICP 系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動控制器等.

KRI 射頻離子源 RFICP 系列伯東代理產(chǎn)品信息

KRI 射頻離子源 RFICP 系列
上海伯東美國 KRI 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻源 RFICP 系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

射頻離子源 RFICP 系列技術(shù)參數(shù):

型號	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 陽極	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻
離子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
離子動能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵極直徑	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	20 cm Φ	30 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直徑	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

射頻離子源 RFICP 系列應(yīng)用:
離子輔助鍍膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )
離子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )
表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )
離子蝕刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)
離子濺鍍 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)
離子濺射鍍膜

上海伯東離子源典型應(yīng)用: 射頻離子源 RFICP 325 安裝在 1650 mm 蒸鍍機中, 實現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean, 完成 LED-DBR 鍍膜生產(chǎn)
右圖: 在高倍顯微鏡下檢視脫膜測試, 樣品無崩邊

射頻離子源

上海伯東離子源典型應(yīng)用: 安裝在離子蝕刻機中的 KRI 射頻離子源, 對應(yīng)用于半導(dǎo)體后端的6寸晶圓進行刻蝕. 右圖: 射頻離子源 RFICP 安裝于腔內(nèi)

射頻離子源

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

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上海伯東: 羅先生中國臺灣伯東: 王小姐

關(guān)鍵詞：控制器顯微鏡