-
Depolab 200 等離子體沉積機(jī) 詳細(xì)摘要: PECVD等離子體沉積工具Depolab 200將平行板等離子體源設(shè)計與直接負(fù)載相結(jié)合。
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
SI 500 D 等離子沉積機(jī) 詳細(xì)摘要: SI 500D 代表了等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積介電薄膜、a-Si、SiC和其他材料的前沿。它基于PTSA等離子體源,反應(yīng)氣體分離氣體入口,動態(tài)控溫基片電極,全控...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
SI 500 PPD等離子沉積機(jī) 詳細(xì)摘要: SI 500 PPD是一種*的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積介質(zhì)薄膜的工具,硅、碳化硅和其他材料。它是基于平面電容耦合等離子體源,真空加載鎖定,控溫基片電極,可選配低...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
SI 500 電感耦合等離子體ICP干法刻蝕系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: SENTECH SI 500 電感耦合等離子體ICP干法刻蝕系統(tǒng),感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)臺,低損傷納米結(jié)構(gòu)刻蝕,高速率刻蝕,內(nèi)置ICP等離子源,動態(tài)溫控。
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
曝光燈HBO 200W/DC ,HBO 350W/S,HBO 1000W/D,HBO 5000W/S 詳細(xì)摘要: 紫外光刻機(jī)用曝光燈HBO 200W/DC ,HBO 300W/S,HBO 1000W/D,HBO 5000W/S等型號,適用于蘇斯光刻機(jī),以及ASML阿斯麥,N...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
SI 500 等離子刻蝕機(jī) 詳細(xì)摘要: ICP-RIE SI 500 德國Sentech等離子刻蝕機(jī), 等離子刻蝕設(shè)備SI 500使用低離子能量的電感耦合等離子體用于低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕。通過在廣...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
Etchlab200 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級) 詳細(xì)摘要: Etchlab200 德國Sentech 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級), 具備低成本效益高的特點(diǎn),并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過載...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 德國Sentech 200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) ,將平行板等離子體源設(shè)計與直接負(fù)載相結(jié)合。根據(jù)其模塊化設(shè)計,Etchlab 200可以升級為更大的抽油機(jī)...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
PE-ALD 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī) 詳細(xì)摘要: PE-ALD 德國Sentech 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī),是在3D結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過在工藝循環(huán)過程中在真空腔室分步...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
Plasmalab System100 英國Oxford 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 詳細(xì)摘要: Plasmalab System100 英國Oxford 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積,基本溫度低,沉積速率快,成模質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂。
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
英國Oxford OpAL 開放式樣品載入原子沉積(ALD)設(shè)備 詳細(xì)摘要: 英國Oxford OpAL 開放式樣品載入原子沉積(ALD)設(shè)備,提供了專業(yè)的熱ALD設(shè)備,可以簡單明了的升級使用等離子體,使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
Oxford System 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備 詳細(xì)摘要: Oxford System 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備,是一個靈活和功能*的等離子體刻蝕和淀積工藝設(shè)備。 采用真空進(jìn)樣室進(jìn)樣可進(jìn)行快速的晶片更換、采用多種工藝...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
Auto500,Ats500英國HHV科研用真空鍍膜機(jī) 詳細(xì)摘要: Auto500是一套多功能的真空鍍膜系統(tǒng)平臺,主要用于科學(xué)研究、技術(shù)開發(fā)或試生產(chǎn)。其真空腔室采用了前開門的箱式設(shè)計,可以容納大尺寸樣品。通過可選擇的設(shè)備配置能分...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
MLA150德國Heidelberg激光直寫光刻機(jī) 詳細(xì)摘要: 德國Heidelberg 激光直寫光刻機(jī)MLA150,高精密激光直寫繪圖機(jī),直接曝光圖形的靈活性能,可提升在Life Science, MEMS, Micro-...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
穩(wěn)定性分析儀 詳細(xì)摘要: LUMiSizer德國LUM全功能穩(wěn)定性分析儀, 專為配方研究及液體穩(wěn)定性控制而研制的儀器,憑借全新的垂直掃描工作原理以及方便的操作,目前已成為膠體實(shí)驗室在進(jìn)行...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
Heidelberg DWL 66+ 無掩模直寫機(jī) 詳細(xì)摘要: Heidelberg DWL 66+ 無掩模直寫機(jī): 是具經(jīng)濟(jì)效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器,適用于小批量掩模板制作和直寫需求。該系統(tǒng)的功能和靈活性使其成為Life ...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
芬蘭 PICOSUN R-200 標(biāo)準(zhǔn)型原子層沉積機(jī)ALD 詳細(xì)摘要: 芬蘭 PICOSUN R-200標(biāo)準(zhǔn)型原子層沉積機(jī)ALDPICOSUN R系列設(shè)備提供高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術(shù),并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性,包括挑戰(zhàn)性...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
瑞士Sawatec ispay-300 噴膠機(jī) 詳細(xì)摘要: 針對具備高度結(jié)構(gòu)化晶圓形貌、深度 MEMS 結(jié)構(gòu)或不平整表面特征的基板,SAWATEC 公司的 iSPRAY 能夠確保盡可能均勻的噴涂效果。它是一款精密的噴膠機(jī)...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
同步熱分析儀(DSC/DTA-TG)STA 449 F5 Jupiter 詳細(xì)摘要: STA 449 F5 Jupiter 為真空密閉結(jié)構(gòu),根據(jù)您的需求進(jìn)行了特別的設(shè)計。儀器配置完整,軟硬件功能設(shè)計齊全,適合于陶瓷,金屬,無機(jī)物,建筑等各類應(yīng)用領(lǐng)...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言 -
差示掃描量熱儀 DSC214 詳細(xì)摘要: 自動分析是 Proteus 軟件*的功能,可以一鍵識別吸熱和放熱效應(yīng)。當(dāng)分析未知成分樣品時,自動分析的結(jié)果可以作為參考。自動識別是用于曲線識別和分析的數(shù)據(jù)庫系統(tǒng)...
產(chǎn)品型號: 所在地: 更新時間:2021-07-13 參考價: 面議 在線留言
制藥網(wǎng)


















