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BW 243FA 全自動(dòng)晶圓貼片機(jī) 詳細(xì)摘要: BW 243FA 全自動(dòng)片機(jī)晶圓貼,SECS / GEM 功能,可對(duì)應(yīng)硅片和藍(lán)寶石晶圓,自動(dòng)化作業(yè),UPH 高。
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-15 參考價(jià): 面議 在線留言 -
BW 228-3FA 全自動(dòng)晶圓貼片壓合機(jī) 詳細(xì)摘要: 228-3FA 全自動(dòng)晶圓貼片壓合機(jī),壓合受力均勻,快速抽換膜料和更換廢料滾動(dòng)條。
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-15 參考價(jià): 面議 在線留言 -
BW228-4FA全自動(dòng)真空壓合機(jī) 詳細(xì)摘要: BW228-4FA全自動(dòng)真空壓合機(jī),SECS / GEM 功能,適用單面 / 雙面膜,制程可快速切換,全自動(dòng)貼片壓合,加壓上下盤(pán)保溫功能,可對(duì)應(yīng)多種膜料
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BW 228-5FA 全自動(dòng)晶圓貼片機(jī) 詳細(xì)摘要: BW 228-5FA 全自動(dòng)晶圓貼片機(jī) ,采用 UV-LED 燈組,無(wú)臭氧污染,雙屏幕方便操作,重要統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)可圖表化
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BW 252FA 全自動(dòng)晶圓擴(kuò)晶機(jī) 詳細(xì)摘要: BW 252FA 全自動(dòng)晶圓擴(kuò)晶,SECM/GEM 功能,全自動(dòng)芯片擴(kuò)晶功能,CCD檢測(cè)擴(kuò)晶后晶圓外徑。
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-15 參考價(jià): 面議 在線留言 -
BW 262A 半自動(dòng)LED晶圓貼片機(jī) 詳細(xì)摘要: BW 262A 半自動(dòng)LED晶圓貼片機(jī),抽換膜料容易,貼膜面高張力,無(wú)氣泡殘留。
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-15 參考價(jià): 面議 在線留言 -
BW 217A 全自動(dòng)LED晶圓貼膜機(jī) 詳細(xì)摘要: BW 217FA 全自動(dòng)晶圓貼膜機(jī),全自動(dòng)貼膜作業(yè),雙手臂取放片,節(jié)省作業(yè)時(shí)間;最多可放 3 個(gè)卡匣,一次處理 75 片鐵環(huán) ( 鐵環(huán)一次最多可放 100 片 ...
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BW 216A 半自動(dòng)LED晶圓貼片機(jī),熱熔切膜 詳細(xì)摘要: BW 216A 半自動(dòng)LED晶圓貼片機(jī),熱熔切膜,易于操作。
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108AUTO 自動(dòng)離子濺射儀 詳細(xì)摘要: 英國(guó) Cressington (US market: Ted Pella) 108Auto 全自動(dòng)離子濺射鍍膜儀 , 是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌上型鍍膜系統(tǒng),特別適用于...
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美國(guó) Nano-master ALD/PEALD原子層沉積機(jī)NLD-4000 詳細(xì)摘要: 美國(guó) Nano-master ALD/PEALD原子層沉積機(jī)NLD-4000是一款獨(dú)立式計(jì)算機(jī)控制的ALD系統(tǒng),全自動(dòng)工藝控制并包含完整的安全連鎖功能,能夠沉積...
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-15 參考價(jià): 面議 在線留言 -
德國(guó)Sentech PE-ALD 等離子體增強(qiáng)--原子層沉積 詳細(xì)摘要: 德國(guó)Sentech PE-ALD 等離子體增強(qiáng)--原子層沉積,SENTECH基于多年研發(fā)制造PECVD和ICPECVD的經(jīng)驗(yàn),包括專有的PTSA技術(shù),推出臺(tái)PE...
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-15 參考價(jià): 面議 在線留言 -
JBX-8100FS日本電子JEOL 圓形電子束光刻系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 日本電子JEOL JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統(tǒng), 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng),通過(guò)的設(shè)計(jì)優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作,更快的刻寫(xiě)速度,更...
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-14 參考價(jià): 面議 在線留言 -
PlasmaPro 100 ALE牛津原子層刻蝕機(jī) 詳細(xì)摘要: 牛津原子層刻蝕機(jī)PlasmaPro 100 ALE,它具有足夠的靈活性,可用于研究和開(kāi)發(fā),通過(guò)打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-14 參考價(jià): 面議 在線留言 -
PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng),平臺(tái)旨在提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的的靈活性以滿足微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)、 *封裝以及納米技...
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Ionfab 300 IBE 牛津離子束刻蝕機(jī) 詳細(xì)摘要: 牛津離子束刻蝕機(jī)Ionfab 300 IBE,離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項(xiàng),包括直開(kāi)式、單襯底傳送模式和盒式對(duì)盒式模...
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-14 參考價(jià): 面議 在線留言 -
PlasmaPro 80 PECVD牛津等離子沉積機(jī) 詳細(xì)摘要: PlasmaPro 80 PECVD牛津等離子沉積機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開(kāi)式系統(tǒng),可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且...
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-14 參考價(jià): 面議 在線留言 -
牛津OpAL 開(kāi)放式樣品載入ALD設(shè)備 詳細(xì)摘要: 牛津OpAL 開(kāi)放式樣品載入ALD設(shè)備,緊湊型開(kāi)放式樣品載入原子層沉積(ALD)系統(tǒng),OpAL提供了專業(yè)的熱ALD設(shè)備,可以簡(jiǎn)單明了的升級(jí)使用等離子體,使得在同...
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PlasmaPro 80 ICP 英國(guó)牛津OXFORD 等離子體刻蝕機(jī) 詳細(xì)摘要: PlasmaPro 80 ICP 英國(guó)牛津OXFORD 等離子體刻蝕機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小型且使用方便的直開(kāi)式系統(tǒng),可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置,便于使...
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-14 參考價(jià): 面議 在線留言 -
System 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備 詳細(xì)摘要: 牛津OXFORD System 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備,具有工藝靈活性,適用于化合物半導(dǎo)體,光電子學(xué),光子學(xué),微機(jī)電系統(tǒng)和微流體技術(shù)。
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-14 參考價(jià): 面議 在線留言 -
PlasmaPro 80 RIE 牛津等離子體刻蝕機(jī) 詳細(xì)摘要: PlasmaPro 80 RIE 牛津等離子體刻蝕機(jī),是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開(kāi)式系統(tǒng),可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且...
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-14 參考價(jià): 面議 在線留言
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