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IoN 40 德國 PVA TePla 等離子清洗機(jī) 詳細(xì)摘要: 德國 PVA TePla 等離子清洗機(jī)IoN 40, 靈活的電極設(shè)計(jì)保證了工藝的均勻性, 觸摸屏操作,圖形用戶界面(GUI)
產(chǎn)品型號(hào): 所在地: 更新時(shí)間:2021-07-19 參考價(jià): 面議 在線留言 -
IoN 100 WB德國 PVA TePla 等離子清洗機(jī) 詳細(xì)摘要: 德國 PVA TePla 等離子清洗機(jī) IoN 100 WB , 是推出的具有高性價(jià)比的真空等離子清洗設(shè)備,可以迅速快捷的更換不同類型的電極結(jié)構(gòu)。
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IoN Wave 10E 德國 PVA TePla 等離子去膠機(jī) 詳細(xì)摘要: IoN Wave 10E 德國 PVA TePla 等離子去膠機(jī), 使用的、性能出色的組件和軟件,可對工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。
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德國 PVA TePla 等離子去膠機(jī) IoN 100WB-40Q 詳細(xì)摘要: 德國 PVA TePla 等離子去膠機(jī) IoN 100WB-40Q, 配備了一個(gè)圓筒石英腔,特別適用于半導(dǎo)體、LED、MEMS等領(lǐng)域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物...
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美國 Harrick PDC-32G-2 基本型等離子清洗機(jī) 詳細(xì)摘要: 美國 Harrick PDC-32G-2 基本型等離子清洗機(jī),該產(chǎn)品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導(dǎo)體、陶瓷、復(fù)合材料、高分子聚合物等材料,并對所...
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美國 Harrick PDC-002 擴(kuò)展型等離子清洗機(jī) 詳細(xì)摘要: 美國 Harrick PDC-002 擴(kuò)展型等離子清洗機(jī),該產(chǎn)品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導(dǎo)體、陶瓷、復(fù)合材料、高分子聚合物等材料,并對所處理...
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美國 Harrich PDC-MG 高集成度等離子清洗機(jī) 詳細(xì)摘要: 美國 Harrich PDC-MG 高集成度等離子清洗機(jī),是一款超清洗設(shè)備, 采用氣體作為清洗介質(zhì),在短時(shí)間內(nèi)能**地清除被清洗物表面的有機(jī)污染物,其清洗能力達(dá)...
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Bell Jar 35 研究型等離子清洗機(jī) 詳細(xì)摘要: Diener Bell Jar 35 研究型等離子清洗機(jī),是一種研究設(shè)備,其專為科學(xué)試驗(yàn)所研發(fā)。該設(shè)備即適用于熱蒸發(fā),濺射 ,電子束蒸發(fā),SEM(掃描電子顯微鏡...
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INTELLI-RAY 400W 紫外面光源 詳細(xì)摘要: INTELLI-RAY 400W 紫外面光源,長壽命400W燈泡和拋物面型反射罩,可以照射2015cm的固化面積,光強(qiáng)分布均勻,UVA強(qiáng)度100mw/cm2。
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NSR 1755i7B Nikon 6英寸分步重復(fù)光刻機(jī) 詳細(xì)摘要: NSR 1755i7B Nikon 6英寸分步重復(fù)光刻機(jī),可用于125mm125mm掩模和100mm及150mm的晶圓高精度投影曝光,曝光精度可達(dá)500nm。
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OAI 納米壓印模組 Nanoimprint Module 詳細(xì)摘要: OAI 納米壓印模組 Nanoimprint Module,納米壓印模塊(特色NIL技術(shù)),是一種模塊化附件,可用于任何光刻機(jī)。 這種創(chuàng)新技術(shù)是由Hewlett...
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OAI AML 晶元綁定機(jī)晶圓接合器 詳細(xì)摘要: OAI AML 晶元綁定機(jī)晶圓接合器,促進(jìn)在高真空室中原位進(jìn)行對準(zhǔn)和接合。AML晶片接合器非常適合陽極接合,硅直接和熱壓接合應(yīng)用。 這些特性使焊接機(jī)能夠與幾乎任...
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OAI UV 紫外光源 詳細(xì)摘要: OAI UV 紫外光源,是大面積準(zhǔn)直光源。 該器件的輸出功率高達(dá)10KW。 利用準(zhǔn)直鏡,UV光源重型是一種高效的紫外光源,適用于各種大規(guī)模應(yīng)用。
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OAI 6000 FSA 全自動(dòng)上側(cè)或后側(cè)光刻機(jī) 詳細(xì)摘要: OAI 6000 FSA 全自動(dòng)上側(cè)或后側(cè)光刻機(jī),用于生產(chǎn)的全自動(dòng),上側(cè)或后側(cè)光刻機(jī)
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OAI 5000E 光刻機(jī) 詳細(xì)摘要: OAI 5000E 光刻機(jī), OAI 5000E型大面積掩光刻機(jī)是一種*的高性能,全自動(dòng)掩模對準(zhǔn)器和曝光工具,可為大型平板應(yīng)用提供超精密,,亞微米對準(zhǔn)和分辨率。...
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OAI 2000SM邊緣曝光系統(tǒng),OAI 2000AF曝光系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: OAI 2000SM邊緣曝光系統(tǒng),OAI 2000AF曝光系統(tǒng),OAI 2000型曝光系統(tǒng)可以配置為邊緣曝光系統(tǒng)(2000SM)或曝光系統(tǒng)(2000AF);這兩...
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OAI 800 MBA 型光學(xué)正面和背面光刻機(jī)系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: OAI800型光學(xué)正面和背面光刻機(jī)系統(tǒng), 是半自動(dòng),four-camera、光學(xué)正面和背面光刻機(jī)。它提供極其精確的(1碌m - 2 m碌)對準(zhǔn)精度,旨在大大*紅...
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Model 200 美國 OAI 光刻機(jī) 詳細(xì)摘要: 美國 OAI 光刻機(jī) Model200 型桌面掩模對準(zhǔn)器系統(tǒng),*手工操作,輸出光譜范圍:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm...
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CHEMUSB4-VIS-NIR分光光度計(jì) 詳細(xì)摘要: CHEMUSB4-VIS-NIR分光光度計(jì),是一款小型系統(tǒng),其包括下列組件:內(nèi)置光源,一臺(tái)USB4000型光譜儀,適用于1cm試管的支架以及高速電子設(shè)備。它能夠...
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RED TIDE USB650-UV-VIS教學(xué)用紅潮光譜儀 詳細(xì)摘要: RED TIDE USB650-UV-VIS教學(xué)用紅潮光譜儀,波長范圍為350~1000nm,配有650有效像素的檢測器,可以在全光譜上顯示650個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn),或者...
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