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OAI 納米壓印模組 Nanoimprint Module

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更新時間:2021-07-19 20:31:15瀏覽次數(shù):307

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產(chǎn)品簡介

OAI 納米壓印模組 Nanoimprint Module,納米壓印模塊(特色NIL技術(shù)),是一種模塊化附件,可用于任何光刻機。 這種創(chuàng)新技術(shù)是由Hewlett Packard開發(fā)的一種低成本的研究和開發(fā)解決方案。 它使得能夠使用高產(chǎn)率脫模技術(shù),并且適用于幾乎所有的光刻機系統(tǒng)。

詳細(xì)介紹

OAI 納米壓印模組 Nanoimprint Module

納米壓印模塊(特色NIL技術(shù))


OAI納米壓印模塊系統(tǒng)是一種模塊化附件,可用于任何光刻機。 這種創(chuàng)新技術(shù)是由Hewlett Packard開發(fā)的一種低成本的研究和開發(fā)解決方案。 它使得能夠使用高產(chǎn)率脫模技術(shù),并且適用于幾乎所有的光刻機系統(tǒng)。

Nanoimprint Module (featuring NIL Technology)

The OAI Nanoimprint Module System is a modular add-on that may be used on any mask Aligner. This innovative technology was developed at Hewlett Packard as a low-cost solution for research and development efforts. It enables the use of high-yield mold release technology and is adaptable to virtually all mask Aligner systems.

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