NSR 1755i7B Nikon 6英寸分步重復(fù)光刻機(jī)

技術(shù)指標(biāo)及功能

把掩膜版上的圖形按照一定的比例縮小復(fù)制到涂布有光刻膠的晶圓上，分區(qū)域進(jìn)行步進(jìn)式曝光。本機(jī)臺(tái)可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圓高精度投影曝光，曝光精度可達(dá)500nm。

基本指標(biāo)

1. RESOLUTION：0.5μm
2. LENS DISTORTION：≤0.9μm
3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY：≤0.02μm
4. STEPPING ACCURACY：≤0.08μm
5. OVERLAY ACCURACY：≤0.15μm(X,Y)
6. OPEN FLAME(MAX. EXPOSURE AREA)：17.5×17.5mm