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詳細摘要： OAI 納米壓印模組 Nanoimprint Module，納米壓印模塊（特色NIL技術），是一種模塊化附件，可用于任何光刻機。 這種創(chuàng)新技術是由Hewlett...

詳細摘要： OAI AML 晶元綁定機晶圓接合器，促進在高真空室中原位進行對準和接合。AML晶片接合器非常適合陽極接合，硅直接和熱壓接合應用。 這些特性使焊接機能夠與幾乎任...

詳細摘要： OAI UV 紫外光源，是大面積準直光源。 該器件的輸出功率高達10KW。 利用準直鏡，UV光源重型是一種高效的紫外光源，適用于各種大規(guī)模應用。

詳細摘要： OAI 6000 FSA 全自動上側或后側光刻機，用于生產的全自動，上側或后側光刻機

詳細摘要： OAI 5000E 光刻機, OAI 5000E型大面積掩光刻機是一種*的高性能，全自動掩模對準器和曝光工具，可為大型平板應用提供超精密，，亞微米對準和分辨率。...

詳細摘要： OAI 2000SM邊緣曝光系統(tǒng),OAI 2000AF曝光系統(tǒng),OAI 2000型曝光系統(tǒng)可以配置為邊緣曝光系統(tǒng)（2000SM）或曝光系統(tǒng)（2000AF）;這兩...

詳細摘要： OAI800型光學正面和背面光刻機系統(tǒng), 是半自動,four-camera、光學正面和背面光刻機。它提供極其精確的(1碌m - 2 m碌)對準精度,旨在大大*紅...

詳細摘要： 美國 OAI 光刻機 Model200 型桌面掩模對準器系統(tǒng)，*手工操作，輸出光譜范圍:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm...

詳細摘要： 日本JEOL大功率電子槍/電源EBG-300UA,JEBG-1000UB,JEBG-3000UB，是在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在不斷...

詳細摘要： 日本JEOL JBX-9500FS　電子束光刻系統(tǒng)，是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼的產出量和定位精度，能容納300mm的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納...

詳細摘要： 日本JEOL JBX-6300FS 電子束光刻系統(tǒng)，在100kV的加速電壓下能自動調整直徑為（計算值）2.1nm的電子束，簡便地描畫出線寬在8nm以下（實際可達...

詳細摘要： 日本JEOL JBX-3200MV 電子束光刻系統(tǒng)，是用于制作28nm～22/20nm節(jié)點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系...

詳細摘要： 日本JEOL JBX-3050MV 電子束光刻系統(tǒng)，用于制作45nm～32nm 節(jié)點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 ...

詳細摘要： 日本電子JEOL JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統(tǒng), 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過的設計優(yōu)化，實現更簡便的操作，更快的刻寫速度，更...

詳細摘要： 俄羅斯Optosystem準分子激光器CL7000，由于波長短（紫外），短脈沖寬度，高脈沖能量，是激光器家族不可替代的品種！應用上，準分子激光器在脈沖沉積鍍膜（...

詳細摘要： nanoArch科研級3D打印機M160 ，本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動化的多材料送料系統(tǒng)，兼顧高精度和多材料打印，可支持同時打印4種樹脂基復合材料進行層間或層內多...

詳細摘要： nanoArch 3D打印機P140/S140 ，科研級3D打印系統(tǒng)，擁有10m的超高打印精度和10m的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和...

詳細摘要： nanoArch微納3D打印機 P130/S130 ，科研級3D打印系統(tǒng)，擁有2m的超高打印精度和5m的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和...

詳細摘要： 瑞士NanoFrazor 3D納米結構高速直寫機，源于發(fā)明STM和AFM的IBM蘇黎世研發(fā)中心，是其在納米加工技術的研究成果。NanoFrazor納米3D結構直...

詳細摘要： 紫外光刻機用曝光燈HBO 200W/DC ，HBO 300W/S，HBO 1000W/D，HBO 5000W/S等型號，適用于蘇斯光刻機，以及ASML阿斯麥，N...