詳細(xì)介紹
JBX-9500FS 電子束光刻系統(tǒng)

JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng),兼的產(chǎn)出量和定位精度,能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納米壓印、光子器件、通信設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。
產(chǎn)品規(guī)格:
電子槍 | ZrO/W 肖特基型 |
描畫方式 | 圓形束, 矢量掃描, 步進(jìn)重復(fù)式 |
加速電壓 | 100kV |
樣品尺寸 | 樣品尺寸 (可以安裝): 300mmΦ的晶圓片, 6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小樣品。 |
場(chǎng)尺寸 | 1000µm×1000µm |
樣品臺(tái)移動(dòng)范圍 | 260mmX240mm |
樣品臺(tái)控制單元 | 0.15nm(λ/4096) |
套刻精度 | ≦±11nm |
場(chǎng)拼接精度 | ≦±10nm (場(chǎng)尺寸為1000µm×1000µm) |
寫場(chǎng)內(nèi)位置精度 | ≦±9nm(場(chǎng)尺寸為1000µm×1000µm) |
定位DAC | 20位 |
掃描速度 | 100MHz |
產(chǎn)品特點(diǎn):
· JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng),兼的產(chǎn)出量和定位精度,能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納米壓印、光子器件、通信設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。
· 此外,由于具有100MHz的掃描速度,場(chǎng)尺寸在1000µm×1000µm時(shí)的套刻精度達(dá)到±11nm、場(chǎng)拼接精度為±10nm、寫場(chǎng)內(nèi)位置精度達(dá)±9nm,是兼具高水準(zhǔn)產(chǎn)出率和位置精度的100kV圓形束光刻系統(tǒng)。
· 由于采用的位置偏轉(zhuǎn)DAC為20位,掃描DAC為14位,能獲得0.25nm的掃描步距,分辨率更高,描畫數(shù)據(jù)增長(zhǎng)1nm,可以更忠實(shí)地再現(xiàn)描畫數(shù)據(jù)。
· 達(dá)到100MHz的高速化掃描速度,保證了大電流描畫時(shí)的掃描步距很短,因而能提高對(duì)精度要求*的圖形描畫的產(chǎn)出量。
· 由激光束控制(LBC)的0.15nm(λ/4096)的最小定位單位及高分辨率,達(dá)到了高水準(zhǔn)的位置精度。
· 本公司獨(dú)自的自動(dòng)校正功能(自動(dòng)補(bǔ)償功能),實(shí)現(xiàn)了可信賴的長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定地描畫。自動(dòng)補(bǔ)償可以根據(jù)時(shí)間(任意的)、場(chǎng)和圖形進(jìn)行分別設(shè)定,非常適合于周末及休假等無(wú)人值守等情況下的長(zhǎng)時(shí)間描畫。
· 該系統(tǒng)能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的光掩模版,適合于納米壓印、光子器件、通信設(shè)備等各種領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。采用材料卡匣傳送系統(tǒng)(選配),最多可裝載10個(gè)卡匣。
· 利用微間距控制程序(場(chǎng)尺寸微調(diào)程序)可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。
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