nanoArch 微納3D打印機(jī) P130/S130

nanoArch P130是可以實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì)，被認(rèn)為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。

科研級(jí)3D打印系統(tǒng)

nanoArch P130是科研級(jí)3D打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

NanoArch P130/S130系統(tǒng)性能：注：樣品高度典型2mm,10mm

nano Arch P130產(chǎn)品規(guī)格：

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：光敏樹脂

光學(xué)精度：2μm

XY打印精度：2-10μm

打印層厚：5-20μm

打印樣品尺寸：3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)

打印件格式：STL

系統(tǒng)外形尺寸：1720(L)x650(W)x1820(H)mm³

重量：450kg

電氣要求：200-240V,AC,50/60HZ,3KW

nano Arch S130產(chǎn)品規(guī)格：

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：光敏樹脂

光學(xué)精度：2μm

XY打印精度：2-10μm

打印層厚：5-20μm

打印樣品尺寸：模式1：3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)

模式2：38.4mm(L)x21.6mm(W)x10mm(H)

模式3：50mm(L)x50mm(W)x10mm(H)

打印件格式：STL

系統(tǒng)外形尺寸：1720(L)x650(W)x1820(H)mm³

重量：450kg

電氣要求：200-240V,AC,50/60HZ,3KW

打印材料：

。通用型：丙烯酸類光敏樹脂，如HDDA，PEGDA等

。個(gè)生化：高強(qiáng)度硬性樹脂，納米顆粒摻雜樹脂，生物科研樹脂等。

系統(tǒng)特性：

。高精度：XY打印精度高達(dá)2μm；

。低層厚：5μm-20μm的打印層厚；

。微尺度打印能力；

。光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，自動(dòng)對(duì)焦功能；

。配置氣浮平臺(tái)，提高打印質(zhì)量；

。優(yōu)良的光源穩(wěn)定性；

。配備*的樣品后處理組件，包括抽真空及紫外后固化。