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L75 PT 水平模式 詳細(xì)摘要: L75 PT 水平模式
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L75 VS/VD 垂直系統(tǒng)“零摩擦”設(shè)計(jì) 詳細(xì)摘要: L75 VS/VD 垂直系統(tǒng)“零摩擦"設(shè)計(jì)
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DIL L74 光學(xué)熱膨脹儀 詳細(xì)摘要: DIL L74 光學(xué)熱膨脹儀
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L76 PT 通用型熱膨脹儀 詳細(xì)摘要: L76 PT 通用型熱膨脹儀
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L75 Laser激光熱膨脹儀 詳細(xì)摘要: L75 Laser激光熱膨脹儀
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L78/RITA 淬火相變/形變儀 詳細(xì)摘要: L78/RITA 淬火相變/形變儀
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L75/High Pressure 高壓熱膨脹儀 詳細(xì)摘要: L75/High Pressure 高壓熱膨脹儀
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L75 PT Quattro 四樣品同時(shí)測(cè)量 詳細(xì)摘要: L75 PT Quattro 四樣品同時(shí)測(cè)量
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LFA 1000 激光導(dǎo)熱儀 詳細(xì)摘要: LFA 1000 激光導(dǎo)熱儀
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LFA 500 通用型 熱擴(kuò)散/導(dǎo)熱測(cè)試儀 詳細(xì)摘要: LFA 500 通用型 熱擴(kuò)散/導(dǎo)熱測(cè)試儀
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TIM - Tester 熱界面材料測(cè)試系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: TIM - Tester 熱界面材料測(cè)試系統(tǒng)
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TF-LFA 薄膜激光導(dǎo)熱儀 詳細(xì)摘要: TF-LFA 薄膜激光導(dǎo)熱儀
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TEG-Tester 熱電轉(zhuǎn)換效率測(cè)量系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: TEG-Tester 熱電轉(zhuǎn)換效率測(cè)量系統(tǒng)
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LSR-3 賽貝克系數(shù)/電阻測(cè)試儀 詳細(xì)摘要: LSR-3 賽貝克系數(shù)/電阻測(cè)試儀
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LZT-Meter 賽貝克系數(shù)/導(dǎo)熱聯(lián)測(cè) 詳細(xì)摘要: LZT-Meter 賽貝克系數(shù)/導(dǎo)熱聯(lián)測(cè)
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JBX-9500FS 電子束光刻系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng),兼具高水平的產(chǎn)出量和定位精度,能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納米壓印、光子器件、通信...
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JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng),通過的設(shè)計(jì)優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作,更快的刻寫速度,更小的占地面積和安裝空間,并且更加綠色節(jié)能。
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JBX-6300FS 電子束光刻系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動(dòng)調(diào)整直徑為(計(jì)算值)2.1nm的電子束,簡(jiǎn)便地描畫出線寬在8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)的圖形。 ...
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JBX-3200MV 電子束光刻系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和...
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JBX-3050MV 電子束光刻系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 zei的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精...
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