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JBX-6300FS 電子束光刻系統(tǒng)

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更新時(shí)間:2026-06-18 08:24:41瀏覽次數(shù):109

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JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動(dòng)調(diào)整直徑為(計(jì)算值)2.1nm的電子束,簡(jiǎn)便地描畫(huà)出線寬在8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)的圖形。 此外,該光刻系統(tǒng)還實(shí)現(xiàn)了9nm以下的場(chǎng)拼接精度和套刻精度,性能比。 利用最細(xì)電子束束斑(實(shí)測(cè)值直徑≦2.9

詳細(xì)介紹

JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動(dòng)調(diào)整直徑為(計(jì)算值)2.1nm的電子束,簡(jiǎn)便地描畫(huà)出線寬在8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)的圖形。

此外,該光刻系統(tǒng)還實(shí)現(xiàn)了9nm以下的場(chǎng)拼接精度和套刻精度,性能比。

利用最細(xì)電子束束斑(實(shí)測(cè)值直徑≦2.9nm)可以描畫(huà)8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)極為精細(xì)的圖形。本公司獨(dú)特的DF/DS系統(tǒng)能對(duì)電子束偏轉(zhuǎn)產(chǎn)生的畸變進(jìn)行校正,具有球差和象散自動(dòng)補(bǔ)償功能,可在場(chǎng)邊角、場(chǎng)邊界處進(jìn)行高精度地描畫(huà)。

該系統(tǒng)采用了19位DAC和樣品臺(tái)控制精度為0.6nm的激光干渉儀,實(shí)現(xiàn)了業(yè)界水準(zhǔn)的位置精度、拼接、套刻精度(±9nm)?!】捎糜谖恢镁纫蠛芨叩墓庾悠骷⑼ㄐ旁O(shè)備等領(lǐng)域的研究和開(kāi)發(fā)。

本公司獨(dú)自的自動(dòng)校正功能(自動(dòng)補(bǔ)償功能),實(shí)現(xiàn)了可信賴(lài)的長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定地描畫(huà)。自動(dòng)補(bǔ)償可以根據(jù)時(shí)間(任意的)、場(chǎng)和圖形進(jìn)行分別設(shè)定,非常適合于周末及休假等無(wú)人值守等情況下的長(zhǎng)時(shí)間描畫(huà)。

掃描速度高達(dá)50MHz,再加上地抑制了機(jī)器的準(zhǔn)備操作時(shí)間,因此縮短了描畫(huà)時(shí)間,到描畫(huà)開(kāi)始為止的作業(yè)非常簡(jiǎn)單,聚焦也能夠自動(dòng)進(jìn)行,因而能提高總產(chǎn)出量。

使用自動(dòng)裝載系統(tǒng)(選配),最多可以連續(xù)描畫(huà)10個(gè)樣品架。(例:可連續(xù)描畫(huà)10張6英寸的晶圓片或者40張2英寸的晶圓片等?!B續(xù)描畫(huà)時(shí),需要和材料數(shù)相應(yīng)的樣品架。)目前在日本國(guó)內(nèi)外已有這樣的生產(chǎn)線。

利用微間距控制程序(場(chǎng)尺寸精調(diào)程序),可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。

電子槍ZrO/W 肖特基型
描畫(huà)方式描畫(huà)方式
加速電壓25kV (選配), 50kV, 100kV
樣品尺寸200mmΦ的晶圓片, 5英寸或 6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小樣品。
樣品尺寸2000μmX2000μm
樣品臺(tái)移動(dòng)范圍190mmX170mm
套刻精度≦±9nm
場(chǎng)拼接精度≦±9nm
掃描速度 50MHz

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