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JEM-3200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡

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公司名稱(chēng)廣州文明機(jī)電有限公司
品牌
型號(hào)
所在地廣州市
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2026/6/17 7:57:54
訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)112

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

廣州文明機(jī)電有限公司,簡(jiǎn)稱(chēng)GZ CVL（GZ Civil Mechatronic)成立于2006年，是業(yè)內(nèi)的企業(yè)，由留學(xué)歸國(guó)的北京大學(xué)博士后和華南師范大學(xué)MBA班學(xué)生共同創(chuàng)辦，擁有數(shù)十項(xiàng)，為廣東省科技型中小企業(yè)，屬?lài)?guó)家與專(zhuān)精特新培育企業(yè)。十幾年來(lái)，我們一直專(zhuān)注的領(lǐng)域包括科學(xué)儀器、汽車(chē)測(cè)試儀器、非標(biāo)自動(dòng)化設(shè)備、測(cè)試測(cè)量與控制、嵌入式開(kāi)發(fā)工具和軟件工程?！癎Z CVL”始終堅(jiān)持品牌化經(jīng)營(yíng)戰(zhàn)略，以服務(wù)為基礎(chǔ)，以質(zhì)量求生存，以管理求發(fā)展，秉承一切以客戶(hù)為中心的服務(wù)理念。憑借多年來(lái)客戶(hù)的信任和支持，“GZ CVL”積累了豐富的營(yíng)銷(xiāo)及安裝經(jīng)驗(yàn)，是一家擁有的管理，的技術(shù)、高水平的營(yíng)銷(xiāo)和*的售后服務(wù)為一體化的專(zhuān)業(yè)化測(cè)試及分析儀器設(shè)備公司。工業(yè)推動(dòng)中國(guó)，創(chuàng)新感動(dòng)世界，GZ CVL以“創(chuàng)、建百年企業(yè)”為奮斗目標(biāo)，積極促進(jìn)“中國(guó)制造”向“中國(guó)創(chuàng)造”的轉(zhuǎn)變。公司以“科技開(kāi)創(chuàng)未來(lái)”為宗旨，以專(zhuān)業(yè)技術(shù)為核心，以?xún)?yōu)質(zhì)產(chǎn)品為先導(dǎo)，為我國(guó)測(cè)試及分析技術(shù)發(fā)展做貢獻(xiàn)，努力實(shí)現(xiàn)中國(guó)工業(yè)騰飛。廣州文明依靠國(guó)內(nèi)外測(cè)試和分析儀器設(shè)備領(lǐng)域多家國(guó)際化大公司以及中山大學(xué)、華南理工大學(xué)的*實(shí)力，代理專(zhuān)業(yè)測(cè)試分析儀器設(shè)備，開(kāi)展相關(guān)技術(shù)培訓(xùn)，自主研發(fā)配套軟硬件，并提供的系統(tǒng)解決方案。公司具有持續(xù)的自主創(chuàng)新能力和科研成果轉(zhuǎn)讓或者產(chǎn)業(yè)化的實(shí)力，核心產(chǎn)品包含：新能源汽車(chē)測(cè)試臺(tái)架，空燃比分析儀，尾氣分析儀，掃描電鏡，熱分析儀，光譜分析儀，質(zhì)譜分析儀等。"GZ CVL" 和 "希為爾"為廣州文明機(jī)電有限公司所擁有的兩個(gè)注冊(cè)商標(biāo)。本公司是日本HORIBA,日本Lineeye,美國(guó)Applus, 美國(guó)Innovate,美國(guó)midtronics,瑞典Kvaser,英國(guó)PICO,日本電子捷歐路(JEOL),德國(guó)林賽斯、韓國(guó)K LAB等公司的中國(guó)代理和經(jīng)銷(xiāo)商。GZ Civil Mechatronic Co. Ltd.(), founded on 2006.It is a well-known enterprise in the industry, focus on test and analytical instruments R & D, manufacture and sales. Our company is committed to carry out the relevant technical training, independent research and development of automotive and industrial automation system, and provide the most effective system solutions. Our core products include: Automotive teaching training equipment, engine power test system, automobile oscilloscope, exhaust gas analyzer etc. 所獲榮譽(yù)：一、廣州市科技型中小企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新基金二、“LM-2空燃比測(cè)試儀”榮獲“全國(guó)20佳維修工具”獎(jiǎng)三、汽車(chē)示波器 3423-kit榮獲“全國(guó)20佳維修工具”獎(jiǎng)四、“立富L總線(xiàn)分析儀”榮獲“全國(guó)20佳維修工具”特別獎(jiǎng)五、廣東省“優(yōu)秀信用企業(yè)”六、阿里巴巴誠(chéng)信通會(huì)員七、慧聰網(wǎng)買(mǎi)賣(mài)通會(huì)員八、具有外貿(mào)進(jìn)出口權(quán)九、是增值稅一般納稅人十、自有商標(biāo)品牌十一、廣東省科技型中小企業(yè)

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JEM-3200FS場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡配備了加速電壓為300kV的場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)‵EG）和鏡筒內(nèi)置式Ω型能量過(guò)濾器，能為廣泛的研究領(lǐng)域提供各種全新的解決方案。

JEM-3200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡產(chǎn)品信息

JEM-3200FS場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡配備了加速電壓為300kV的場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)‵EG）和鏡筒內(nèi)置式Ω型能量過(guò)濾器，能為廣泛的研究領(lǐng)域提供各種全新的解決方案。
鏡筒內(nèi)置式Ω型能量過(guò)濾器(omega 過(guò)濾器)
鏡筒內(nèi)置式Ω型能量過(guò)濾器內(nèi)置于成像透鏡系統(tǒng)，能容易地獲得能量過(guò)濾像和能量損失譜，同時(shí)還能獲得與傳統(tǒng)電子顯微鏡同等的放大倍率范圍。此外、Ω型過(guò)濾器的電子光學(xué)系統(tǒng)在設(shè)計(jì)上地減少了圖像畸變，出廠前還將剩余一點(diǎn)的畸變做了最后的修正。JEM-3200FS還采用了高靈敏度的相機(jī)系統(tǒng)及圖像處理系統(tǒng)（選配件），可以構(gòu)建元素面分布系統(tǒng)及能量損失譜系統(tǒng)。
新型控制系統(tǒng)
電子槍、電子光學(xué)系統(tǒng)、測(cè)角臺(tái)、抽真空系統(tǒng)等電子顯微鏡基本功能的系統(tǒng)化，實(shí)現(xiàn)了高穩(wěn)定、高性能的控制系統(tǒng)。圖像畫(huà)面和用戶(hù)界面采用Windows ®*1，可以進(jìn)行編程操作和附件的集中控制。
新型測(cè)角臺(tái)
系統(tǒng)化的新型測(cè)角臺(tái)內(nèi)置壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，使高倍率下的樣品移動(dòng)更加精確。*2.
*1 : 注意事項(xiàng)：Windows是微軟公司在美國(guó)和其他國(guó)家的注冊(cè)商標(biāo)。
*2 : 僅有壓電元件包括在基本單元中，壓電元件的電源為選配件。

物鏡極靴^*1	超高分辨UHR	高分辨率HR	高傾斜HT	高襯度HC
分辨率
點(diǎn)分辨率晶格分辨率	0.17nm 0.1nm	0.19nm 0.1nm	0.21nm 0.1nm	0.26nm 0.14nm
能量分辨率	0.9 eV（零損失FWHM）
加速電壓	300kV，200kV,100kV^*2
最小步長(zhǎng) 　能量位移	100V 3,000V (以0.2V為步長(zhǎng))
電子槍
發(fā)射體	ZrO/W(100) 肖特基式
亮度	≧7×10⁸ A/cm² ? sr
真空度	3×10^-8Pa
探針電流	探針直徑為1nm時(shí)，電流在0.5nA以上
穩(wěn)定度
加速電壓	2×10^-6/min
物鏡電流	1×10^-6/min
過(guò)濾器透鏡電流	1×10^-6/min
物鏡
焦距	2.7 mm	3.0 mm	3.5 mm	3.9 mm
球差系數(shù)	0.6 mm	1.1 mm	1.4 mm	3.2 mm
色差系數(shù)	1.5 mm	1.8 mm	2.2 mm	3.0 mm
最小焦距步長(zhǎng)	1.0 nm	1.4 nm	1.5 nm	4.1 nm
束斑尺寸
TEM 模式	2 ～ 5 nmφ		2 ～ 5 nmφ	7 ～ 30 nmφ
EDS 模式	0.4 ～ 1.6 nmφ		0.5 ～ 2.4 nmφ	4 ～ 20 nmφ
NBD 模式	0.4 ～ 1.6 nmφ		0.5 ～ 2.4 nmφ	-
CBD 模式	0.4 ～ 1.6 nmφ		0.5 ～ 2.4 nmφ	-
電子束衍射
衍射角(2α)	1.5 t～ 20 mrad			-
取出角	±10 °			-
倍率
MAG 模式	×2,500 ～ 1,500,000		×2,000 ～ 1,200,000	×1,500 ～ 1,200,000
LOW MAG 模式	×100 ～ 3,000
SA MAG 模式	×8,000 ～ 600,000		×6,000 ～ 500,000	×5,000 ～ 500,000
視野	10eV時(shí)狹縫寬度60mm(底片上) 2eV時(shí)狹縫寬度25mm(底片上)
相機(jī)長(zhǎng)度
選區(qū)電子衍射	200 ～ 2,000 mm		250 ～ 2,500 mm	400 ～ 3,000 mm
EELS 散射
能量選擇　在能量選擇狹縫上	0.85 μm/eV , 300 kV
底片上	100 ～ 220 μm/eV , 300kV
樣品室
樣品移動(dòng)范圍 (XY/Z)	2mm/0.2mm	2mm/0.4mm	2mm/0.4mm	2mm/0.4mm
樣品傾斜角 (X/Y)	±25°/±25°^*3	±35°/±30°^*3	±42°/±30°^*3	±38°/±30°^*3
EDS^*4
固體角	0.13 sr			0.09 sr
取出角	25°			20°