JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼具高水平的產(chǎn)出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。
此外，由于具有100MHz的掃描速度，場(chǎng)尺寸在1000µm×1000µm時(shí)的套刻精度達(dá)到±11nm、場(chǎng)拼接精度為±10nm、寫場(chǎng)內(nèi)位置精度達(dá)±9nm，是兼具高水準(zhǔn)產(chǎn)出率和位置精度的100kV圓形束光刻系統(tǒng)。
由于采用的位置偏轉(zhuǎn)DAC為20位，掃描DAC為14位，能獲得0.25nm的掃描步距，分辨率更高，描畫數(shù)據(jù)增長(zhǎng)1nm，可以更忠實(shí)地再現(xiàn)描畫數(shù)據(jù)。
達(dá)到100ＭＨｚ的高速化掃描速度，保證了大電流描畫時(shí)的掃描步距很短，因而能提高對(duì)精度要求的圖形描畫的產(chǎn)出量。
由激光束控制（LBC）的0.15nm（λ/4096）的最小定位單位及高分辨率，達(dá)到了高水準(zhǔn)的位置精度。
本公司獨(dú)自的自動(dòng)校正功能(自動(dòng)補(bǔ)償功能)，實(shí)現(xiàn)了可信賴的長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定地描畫。自動(dòng)補(bǔ)償可以根據(jù)時(shí)間（任意的）、場(chǎng)和圖形進(jìn)行分別設(shè)定，非常適合于周末及休假等無(wú)人值守等情況下的長(zhǎng)時(shí)間描畫。
該系統(tǒng)能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的光掩模版，適合于納米壓印、光子器件、通信設(shè)備等各種領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。采用材料卡匣傳送系統(tǒng)（選配），最多可裝載10個(gè)卡匣。
利用微間距控制程序（場(chǎng)尺寸微調(diào)程序）可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。
| 電子槍 | ZrO/W 肖特基型 |
|---|---|
| 描畫方式 | 圓形束, 矢量掃描, 步進(jìn)重復(fù)式 |
| 加速電壓 | 100kV |
| 樣品尺寸 | 樣品尺寸 (可以安裝): 300mmΦ的晶圓片, 6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小樣品。 |
| 場(chǎng)尺寸 | 1000µm×1000µm |
| 樣品臺(tái)移動(dòng)范圍 | 260mmX240mm |
| 樣品臺(tái)控制單元 | 0.15nm（λ/4096） |
| 套刻精度 | ≦±11nm |
| 場(chǎng)拼接精度 | ≦±10nm （場(chǎng)尺寸為1000µm×1000µm） |
| 寫場(chǎng)內(nèi)位置精度 | ≦±9nm（場(chǎng)尺寸為1000µm×1000µm） |
| 定位DAC | 20位 |
| 掃描速度 | 100MHz |
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