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制藥網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>儀器儀表>物性測試儀器>高低溫試驗箱>SUNDI-655 高低溫測試設(shè)備-夾套循環(huán)水加熱系統(tǒng)

  • 高低溫測試設(shè)備-夾套循環(huán)水加熱系統(tǒng)
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參考價 ¥ 165447
訂貨量 ≥1臺
具體成交價以合同協(xié)議為準
廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

型號

SUNDI-655

訪問次數(shù)

480

產(chǎn)地

江蘇無錫市

更新時間

2025/5/27 16:37:44

黃經(jīng)理

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產(chǎn)品簡介

高低溫測試設(shè)備-夾套循環(huán)水加熱系統(tǒng)產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)地 國產(chǎn) 產(chǎn)品大小 小型
產(chǎn)品新舊 全新 控溫方式 水冷式
自動化程度 其他
【無錫冠亞】高低溫測試設(shè)備-夾套循環(huán)水加熱系統(tǒng),應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

高低溫測試設(shè)備-夾套循環(huán)水加熱系統(tǒng)詳細信息


無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應用:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、

蒸餾系統(tǒng)控溫、

材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、

半導體設(shè)備冷卻加熱、

真空室制冷加熱恒溫控制。



型號SUNDI-320SUNDI-420WSUNDI-430W
介質(zhì)溫度范圍-30℃~180℃-40℃~180℃-40℃~200℃
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設(shè)備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定
程序編輯可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
物料溫度反饋PT100
溫度反饋設(shè)備進口溫度、設(shè)備出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質(zhì)溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率2KW2KW3KW
制冷能力180℃1.5kW1.8kW3kW
50℃1.5kW1.8kW3kW
0℃1.5kW1.8kW3kW
-5℃0.9kW1.2kW2kW
-20℃0.6kW1kW1.5kW
-35℃
0.3kW0.5kW
循環(huán)泵流量、壓力max10L/min

0.8bar

max10L/min

0.8bar

max20L/min

2bar

壓縮機海立/泰康/思科普
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關(guān),過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質(zhì)。
制冷劑R-404A/R507C
接口尺寸G1/2G1/2G1/2
水冷型 W

溫度 20度


450L/H

1.5bar~4bar

G3/8

550L/H

1.5bar~4bar

G3/8

外型尺寸 cm45*65*8745*65*8745*65*120
正壓防爆尺寸
70*75*121.570*75*121.5
標配重量55kg55kg85kg
電源AC 220V 50HZ 2.9kW(max)AC 220V 50HZ 3.3kW(max)AC380V 50HZ  4.5kW(max)
外殼材質(zhì)SUS 304SUS 304SUS 304
選配
正壓防爆  后綴加PEX
選配可選配以太網(wǎng)接口,配置電腦操作軟件
選配選配外置觸摸屏控制器,通信線距離10M
選配電源100V 50HZ單相,110V 60HZ 單相,230V 60HZ 單相, 220V 60HZ 三相,440V~460V 60HZ 三相



  

高低溫測試設(shè)備-夾套循環(huán)水加熱系統(tǒng)

高低溫測試設(shè)備-夾套循環(huán)水加熱系統(tǒng)


 

  半導體制冷機chiller±0.5℃精度控制的技術(shù)手段

  1、冗余測溫與傳感器融合

  在進水口、出水口及工藝腔室內(nèi)布置鉑電阻傳感器,結(jié)合紅外熱像儀監(jiān)測溫度場分布,數(shù)據(jù)融合后控溫精度提升。

  自校準機制:每24小時自動進行冰點校準,消除傳感器漂移誤差。

  2、智能溫控系統(tǒng)

  PID+前饋控制:結(jié)合比例-積分-微分(PID)算法與前饋控制,實現(xiàn)溫度的準確跟蹤與快速穩(wěn)定。

  壓力梯度管理:通過變頻泵調(diào)節(jié)冷卻介質(zhì)流速,確保腔體內(nèi)各點水壓波動,避免局部過熱。

  半導體制冷機chiller典型應用場景

  1. 晶圓制造:光刻與蝕刻工藝的溫控保障

  光刻膠涂布:溫度波動超過±0.5℃會導致光刻膠厚度不均,半導體制冷機chiller通過閉環(huán)控制將晶圓臺溫度穩(wěn)定,確保線寬精度。

  蝕刻機熱管理:蝕刻過程中反應腔溫度需控制在±0.3℃,半導體制冷機chiller集成液冷系統(tǒng)實現(xiàn)快速熱交換,避免工藝偏差。

  2. 封裝測試:芯片可靠性驗證

  焊線機溫控:鍵合頭溫度需穩(wěn)定,半導體制冷機chiller通過微型化設(shè)計嵌入設(shè)備,確保焊接強度與良率。

  老化測試:加速壽命試驗中,半導體制冷機chiller為多工位測試臺提供獨立溫控通道,支持寬域循環(huán)。

  3. 制程:EUV光刻機的熱負載管理

EUV光源冷卻:光刻機反射鏡溫度需恒定在-10℃,半導體制冷機chiller配合循環(huán)系統(tǒng),將熱負載降低,避免鏡面形變。










高低溫測試設(shè)備-夾套循環(huán)水加熱系統(tǒng)



關(guān)聯(lián)品牌

無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司致力于制冷加熱控溫系統(tǒng)、超低溫冷凍機、新能源汽車部件測試系統(tǒng)、VOCs冷凝回收裝置、加熱循環(huán)系統(tǒng)、防爆電氣設(shè)備、試驗設(shè)備、工業(yè)超低溫冷凍室的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。

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