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制藥網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>儀器儀表>物性測試儀器>高低溫試驗箱>SUNDI-5A10W 加熱制冷一體機-原料藥高低溫循環(huán)裝置

  • 加熱制冷一體機-原料藥高低溫循環(huán)裝置
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參考價 ¥ 169455
訂貨量 ≥1臺
具體成交價以合同協(xié)議為準
廠商性質

生產(chǎn)廠家

型號

SUNDI-5A10W

訪問次數(shù)

256

產(chǎn)地

江蘇無錫市

更新時間

2025/5/22 10:33:03

黃經(jīng)理

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產(chǎn)品簡介

加熱制冷一體機-原料藥高低溫循環(huán)裝置產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)地 國產(chǎn) 產(chǎn)品大小 小型
產(chǎn)品新舊 全新 控溫方式 水冷式
自動化程度 其他
【無錫冠亞】加熱制冷一體機-原料藥高低溫循環(huán)裝置,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

加熱制冷一體機-原料藥高低溫循環(huán)裝置詳細信息


無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應用:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、

蒸餾系統(tǒng)控溫、

材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、

半導體設備冷卻加熱、

真空室制冷加熱恒溫控制。



型號SUNDI-320SUNDI-420WSUNDI-430W
介質溫度范圍-30℃~180℃-40℃~180℃-40℃~200℃
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
物料溫度反饋PT100
溫度反饋設備進口溫度、設備出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率2KW2KW3KW
制冷能力180℃1.5kW1.8kW3kW
50℃1.5kW1.8kW3kW
0℃1.5kW1.8kW3kW
-5℃0.9kW1.2kW2kW
-20℃0.6kW1kW1.5kW
-35℃
0.3kW0.5kW
循環(huán)泵流量、壓力max10L/min

0.8bar

max10L/min

0.8bar

max20L/min

2bar

壓縮機海立/泰康/思科普
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
制冷劑R-404A/R507C
接口尺寸G1/2G1/2G1/2
水冷型 W

溫度 20度


450L/H

1.5bar~4bar

G3/8

550L/H

1.5bar~4bar

G3/8

外型尺寸 cm45*65*8745*65*8745*65*120
正壓防爆尺寸
70*75*121.570*75*121.5
標配重量55kg55kg85kg
電源AC 220V 50HZ 2.9kW(max)AC 220V 50HZ 3.3kW(max)AC380V 50HZ  4.5kW(max)
外殼材質SUS 304SUS 304SUS 304
選配
正壓防爆  后綴加PEX
選配可選配以太網(wǎng)接口,配置電腦操作軟件
選配選配外置觸摸屏控制器,通信線距離10M
選配電源100V 50HZ單相,110V 60HZ 單相,230V 60HZ 單相, 220V 60HZ 三相,440V~460V 60HZ 三相



  

  一、高低溫循環(huán)一體機定義與技術特性

  高低溫循環(huán)一體機是一種集成制冷、加熱與循環(huán)功能的智能化溫控設備,通過導熱介質(水、油或乙二醇溶液)實現(xiàn)準確溫度管理。其核心技術包括:

  寬域溫控:支持-120℃至+350℃連續(xù)控溫,覆蓋從超低溫冷凍到高溫反應的工業(yè)需求。

  智能算法:采用PID自適應控制技術,控溫精度達±0.1℃,確保過程穩(wěn)定性。

  全密閉設計:杜絕介質氧化與污染,循環(huán)泵泄漏率。

  二、高低溫循環(huán)一體機核心配套儀器與應用效果

  1.反應釜/反應器/反應罐應用效果:

  化工領域:在聚合反應中實現(xiàn)±0.5℃動態(tài)控溫,副產(chǎn)物生成量降低。

  制藥行業(yè):藥物結晶過程梯度降溫(如-1℃/min),晶型純度提升。

  行業(yè)適配:精細化學品合成、生物發(fā)酵、納米材料制備等。

  2.其他關鍵配套設備

  配套蒸餾系統(tǒng):植物提取物分離

  配套微通道反應器:連續(xù)流工藝

  配套旋轉蒸發(fā)儀:|溶劑回收

  三、高低溫循環(huán)一體機行業(yè)應用與實驗室場景

  1.制藥領域

  原料藥純化:低溫結晶(-20℃)減少雜質,符合標準。

  生物反應控制:細胞培養(yǎng)罐恒溫(37±0.2℃),活性蛋白收率提高。

  2.化工生產(chǎn)

  危險工藝:硝化反應控溫(30-50℃),爆炸風險降低。

  材料改性:石墨烯合成(高溫+驟冷),導電率提升。

  四、高低溫循環(huán)一體機科學選購指南

  1.需求分析

  明確溫度范圍、升降溫速率(如5℃/min)、反應釜容積(50L-10,000L適配方案)。

  2.性能驗證

  要求供應商提供第三方檢測報告,進行核查:

  滿負荷連續(xù)運行72小時溫漂數(shù)據(jù)

  介質流速波動范圍

  3.服務保障

  選擇具備ISO9001認證的廠商,確保2小時響應、48小時到場的售后支持。



加熱制冷一體機-原料藥高低溫循環(huán)裝置

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