腔體采用了雙層石英管結(jié)構(gòu)，外層管進(jìn)氣，內(nèi)層管出氣，使得反應(yīng)氣氛與加工樣品充分而均勻地接觸。

加熱燈管之所以能夠讓硅片快速升溫，是因?yàn)楣庠床ㄩL在0.3-4微米之間，石英管壁無法有效吸收這一波段的輻射，而晶片則正好相反。因此，晶片可以吸收輻射能量快速加熱，而此時石英管壁仍維持低溫，即所謂冷壁工藝。

應(yīng)用領(lǐng)域

Ø 快速熱退火 (RTA); 離子注入后退火

Ø 石墨烯等氣象沉積，碳納米管等外延生長

Ø 快速熱氧化 (,RTO); 熱氮化 (RTN);

Ø 硅化 (Silicidation);

Ø 擴(kuò)散 (Diffusion);

Ø 離子注入后退火 (Implant Annealing);

Ø 電極合金化 (Contact Alloying);

Ø 晶向化和堅(jiān)化 (Crystallization and Densification);

主要特點(diǎn)

Ø 極速升溫100℃/S，極速降溫100℃/S；

Ø 雙層爐管結(jié)構(gòu)，氣氛與樣品接觸更均勻；

Ø 直接測量樣品表面溫度，測溫更精準(zhǔn)；

Ø 爐膛根據(jù)設(shè)置可自動左右移動，可以滿足更多的實(shí)驗(yàn)應(yīng)用；

Ø 真空度可達(dá)7.4×10-4Pa；

*800℃以上保溫時間超過1分鐘會影響降溫速度，保溫10分鐘以上，需選配法蘭水冷套。

原創(chuàng)作者：廈門科朋儀器有限公司