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等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學、微電子、半導體、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的

等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學、微電子、半導體、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的

CPC系列生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設(shè)計的等離子體表面處理設(shè)備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景

桌面型、可中試生產(chǎn)、模擬生產(chǎn)條件的等離子體清洗設(shè)備，幾乎具備等離子體清洗設(shè)備所有的功能

小型等離子體清洗設(shè)備，傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計理念，采用頂置真空倉，上開蓋下壓式鉸鏈開關(guān)方式，上置式360度自由取放樣品托盤設(shè)計，具有較大的腔體尺寸和樣品處理面...

其外觀美學設(shè)計，結(jié)構(gòu)緊湊，漂亮大氣，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計，使得處理樣品量更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡便，性價比更高，使用成本更低，實用性更...

等離子清洗機在材料學，光學，電子學，醫(yī)藥學，環(huán)境學、生物學等科研領(lǐng)域得了廣泛的應(yīng)用，主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、金屬還原...

應(yīng)用領(lǐng)域等離子清洗機在材料學，光學，電子學，醫(yī)藥學，環(huán)境學、生物學等科研領(lǐng)域得了廣泛的應(yīng)用，主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、...