賽默飛 Nexsa X 射線光電子能譜儀 （XPS） 系統(tǒng)能提供全自動(dòng)、高通量的多技術(shù)分析，并可保持研究級(jí)結(jié)果的高質(zhì)量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多種分析技術(shù)集于一身，用戶因此能夠進(jìn)行真正意義上的相關(guān)性分析，從而為微電子、超薄膜、納米技術(shù)開(kāi)發(fā)以及許多其他應(yīng)用進(jìn)一步取得進(jìn)展釋放潛能。

賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 系統(tǒng)能提供全自動(dòng)、高通量的多技術(shù)分析，并可保持研究級(jí)結(jié)果的高質(zhì)量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多種分析技術(shù)集于一身，用戶因此能夠進(jìn)行真正意義上的相關(guān)性分析，從而為微電子、超薄膜、納米技術(shù)開(kāi)發(fā)以及許多其他應(yīng)用進(jìn)一步取得進(jìn)展釋放潛能。
賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 具有靈活性，可限度地發(fā)揮材料潛能。在使結(jié)果保持研究級(jí)質(zhì)量水平的同時(shí)，以多重整合技術(shù)選項(xiàng)的形式提供靈活性，從而實(shí)現(xiàn)真正意義上的相關(guān)性數(shù)據(jù)分析和高通量。
標(biāo)準(zhǔn)化功能催生*性能：
絕緣體分析
高性能光譜
深度剖析
多技術(shù)整合
雙模式離子源，使深度剖析功能得到擴(kuò)展
用于 ARXPS 測(cè)量的傾斜模塊
用于儀器控制、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告的 Avantage 軟件
小光斑分析
可選的升級(jí)：可將任何全自動(dòng)化集成技術(shù)添加到您的分析中。觸動(dòng)按鈕即可運(yùn)行。
ISS：在離子散射光譜技術(shù)中，一束離子可被某物體表面散射
UPS：紫外光電子能譜是指對(duì)吸收了紫外光子的分子所發(fā)射的光電子動(dòng)能譜進(jìn)行測(cè)量，以確定化合價(jià)區(qū)域中的分子軌道能量
拉曼：能譜技術(shù)在化學(xué)領(lǐng)域被用于提供結(jié)構(gòu)指紋
REELS：反射電子能量損失譜
借助 SnapMap 的光學(xué)視圖，聚焦于樣品特征。光學(xué)視圖可以幫助您快速定位感興趣區(qū)域，同時(shí)生成*聚焦的 XPS 圖像，以進(jìn)一步定義您的實(shí)驗(yàn)。
X 射線照射樣品上的一個(gè)小區(qū)域。
收集來(lái)自這一小區(qū)域的光電子并將其聚焦于分析儀
隨著鏡臺(tái)的移動(dòng)，不斷采集能譜
在整個(gè)數(shù)據(jù)采集過(guò)程中監(jiān)測(cè)鏡臺(tái)位置，這些位置用來(lái)生成 SnapMap