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PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀

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PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀是材料科學(xué)和發(fā)展的領(lǐng)域中Z廣泛使用的表面分析技術(shù)。其原理是利用X射線束(一般會(huì)使鋁陽(yáng)極或鎂陽(yáng)極)作為入射源,照射在樣品表面導(dǎo)致讓光電子從原子的核心層被激發(fā)出。根據(jù)測(cè)得的光電子所發(fā)出的電子動(dòng)能,再依照能量守恒定律就可以知道電子的結(jié)合能,從而也就可知道樣品表面是何物質(zhì)。

詳細(xì)介紹

PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀是材料科學(xué)和發(fā)展的領(lǐng)域中zui廣泛使用的表面分析技術(shù)。其原理是利用X射線束(一般會(huì)使鋁陽(yáng)極或鎂陽(yáng)極)作為入射源,照射在樣品表面導(dǎo)致讓光電子從原子的核心層被激發(fā)出。根據(jù)測(cè)得的光電子所發(fā)出的電子動(dòng)能,再依照能量守恒定律就可以知道電子的結(jié)合能,從而也就可知道樣品表面是何物質(zhì)。
PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀能提供高性能的微區(qū)光譜,化學(xué)成像,二次電子成像,其zui小的X射線束光柵掃描直徑約為10微米。X射線束的大小可以輕易的使用電腦控制在直徑10微米到400微米設(shè)定,從而達(dá)到的空間解釋度與zui高的靈敏度。VP-II 可以輕易的對(duì)不管是導(dǎo)體或非導(dǎo)體獲取化學(xué)態(tài)的成像 或是離子濺射的深度分析,樣品例子如催化劑,金屬和電子設(shè)備,玻璃和聚合物,甚至是生物材料和組織等等。
維持了核心能力,包括掃描和聚焦 X 射線,的離子與電子雙中和系統(tǒng),以及可以在極低電壓也可工作的高效能離子槍?zhuān)涣碛锌蛇x項(xiàng)配置C60離子槍?zhuān)峁┝嗽S多有機(jī)材料*而*的濺射深度剖析能力;另外,一個(gè)*自動(dòng)化的五軸樣品操盤(pán)促進(jìn)多個(gè)樣品的自動(dòng)分析并提供Zalar旋轉(zhuǎn)“Zalar RotationTM”的能力,可配合氬氣離子束或可選項(xiàng)配置的C60來(lái)進(jìn)行濺射深度剖析。zui后,全新的操作界面SMARTSOFT-XPS,提供多技術(shù)儀器控制一個(gè)易于使用的平臺(tái)。在數(shù)據(jù)解釋和操縱總結(jié)中,對(duì)VP-II 的性能有著明顯的提高。

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