蘇州芯矽電子科技有限公司
詳細摘要： 芯矽科技深耕半導體濕法設(shè)備領(lǐng)域，其半導體晶圓電鍍設(shè)備堪稱國產(chǎn)技術(shù)。設(shè)備融合高精度控制與智能化設(shè)計，可精準調(diào)控電流、溫度等核心參數(shù)，保障鍍層均勻性達納米級，適配4...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-28 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技晶圓前道濕法刻蝕機，以多槽模塊化架構(gòu)融合化學浸泡、超聲波/兆聲波輔助及智能溫控技術(shù)，溫度波動控制在±0.5℃內(nèi)，保障工藝穩(wěn)定。設(shè)備支持8-12英寸晶圓全...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-28 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技的小型濕法清洗設(shè)備，是半導體精密清洗的高效之選！設(shè)備融合化學與物理協(xié)同清洗技術(shù)，搭載智能控制系統(tǒng)，精準調(diào)控溫度、藥液濃度等關(guān)鍵參數(shù)，適配小批量、高精度清...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-22 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技的槽式酸堿清洗機，融合化學溶解與超聲波/兆聲波空化技術(shù)，通過多槽模塊化設(shè)計實現(xiàn)預(yù)洗、主洗、漂洗、干燥全流程自動化。搭載PLC智能控制系統(tǒng)，精準調(diào)控溫度、...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-22 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技槽式有機清洗機，融合超聲波與定制化化學清洗技術(shù)，實現(xiàn)納米級精準清洗，適配5nm及以下制程。設(shè)備采用模塊化設(shè)計，支持4-12槽靈活擴展，滿足4-12英寸晶...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-22 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技作為國產(chǎn)半導體濕法清洗設(shè)備制造企業(yè)，深耕晶圓清洗領(lǐng)域，產(chǎn)品覆蓋單片、槽式、石英專用清洗機等，適配4-12英寸晶圓及5nm以下制程。設(shè)備融合超聲波、兆聲波...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-15 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技晶片腐蝕清洗機，是半導體精密制造的核心利器。它融合RCA標準工藝與超聲波、兆聲波等多元技術(shù)，精準去除晶圓表面納米級顆粒、金屬及有機物污染，適配2-12英...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-14 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技深耕半導體濕法設(shè)備領(lǐng)域，融合超聲波、兆聲波等多元技術(shù)，可高效清除≥0.1μm顆粒，適配28nm以下制程。搭載PLC，實現(xiàn)參數(shù)精準調(diào)控，溫控精度達±0.1...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-14 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技的RCA濕法腐蝕清洗機，基于SC-1、SC-2等標準化學配方，融合旋轉(zhuǎn)噴淋、超聲波震蕩等技術(shù)，可高效去除晶圓表面顆粒、有機物及金屬污染物，保障潔凈基底。...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-07 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技深耕半導體濕法清洗領(lǐng)域，具有半導體部件清洗設(shè)備以硬核技術(shù)。設(shè)備融合超聲波、兆聲波與等離子體清洗技術(shù)，搭配智能化控制系統(tǒng)，可精準去除≥0.1μm顆粒及頑固...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-07 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技的wafer多片式清洗機，以模塊化多腔室設(shè)計實現(xiàn)全自動流程，適配4-12英寸晶圓批量處理，產(chǎn)能達120-200片/小時。設(shè)備融合PVA軟刷、兆聲波清洗及...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-07 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技全自動有機清洗機，聚焦半導體精密清洗需求，深度融合濕法清洗、超聲波/兆聲波及等離子體等多元技術(shù)，精準去除有機物、顆粒及金屬污染物。設(shè)備搭載PLC智能系統(tǒng)...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-01 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技晶舟盒清洗機，是半導體制造的關(guān)鍵清洗利器。它融合超聲波、高壓噴淋與化學清洗等技術(shù)，可高效清除頑固污染物，適配多規(guī)格晶舟盒。設(shè)備自動化程度高，支持全流程無...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-01 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技的Cassette清洗機，以多槽模塊化設(shè)計集成預(yù)洗、主洗、干燥全流程，適配4-12英寸晶圓批量處理，避免交叉污染。融合超聲波與化學清洗技術(shù)，搭配高精度溫...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-07-01 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技深耕半導體濕法清洗領(lǐng)域，自主研發(fā)的零部件清洗設(shè)備以“超聲波+化學清洗"深度融合為核心，構(gòu)建“物理剝離+化學溶解"雙重機制，精準攻克納米級顆粒與復雜結(jié)構(gòu)盲...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-06-23 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技硅片槽式清洗機，融合超聲波空化效應(yīng)與定制化化學清洗技術(shù)，實現(xiàn)“物理剝離+化學溶解"雙重潔凈。設(shè)備支持4-12英寸晶圓批量處理，適配5nm及以下制程，攻克...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-06-23 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技KOH刻蝕清洗機，依托自主研發(fā)的濕法清洗技術(shù)，適配4-12英寸晶圓，融合超聲波、兆聲波等多元清洗手段，可精準調(diào)控KOH溶液參數(shù)，高效清除亞微米級顆粒，適...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-06-23 在線留言
詳細摘要： 芯矽科技專注半導體部件清洗領(lǐng)域，憑借自主研發(fā)的硬核技術(shù)，打造晶圓無載具清洗機、槽式清洗設(shè)備等全場景產(chǎn)品矩陣。其融合超聲波/兆聲波、等離子體等多元技術(shù)，實現(xiàn)納米級...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-06-22 在線留言
詳細摘要： 濕法腐蝕臺是半導體制造的核心基礎(chǔ)設(shè)備，依托精準配比的化學腐蝕液，通過可控的化學反應(yīng)，對晶圓表面材料進行定向去除，實現(xiàn)精細刻蝕。它操作靈活，能精準把控腐蝕速率與深...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-06-10 在線留言
詳細摘要： 全自動濕法清洗設(shè)備是半導體制造的核心關(guān)鍵裝備，它集成智能控制系統(tǒng)與精準化學清洗工藝，能全流程自動化完成晶圓的去膠、去污、漂洗、干燥等工序。設(shè)備依托定制化化學試劑...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2026-06-10 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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