Atonarp 質(zhì)譜分析儀 Aston™ 半導(dǎo)體 CVD / ALD 應(yīng)用
上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston™ 專為半導(dǎo)體生產(chǎn)而設(shè)計(jì), 作為一個(gè)*的平臺(tái), Aston™ 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供半導(dǎo)體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測分析, 實(shí)現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷并在一系列應(yīng)用中提供的控制水平, 適用于光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.

Aston™ 質(zhì)譜分析儀耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液, 能夠在半導(dǎo)體生產(chǎn)遇到的惡劣工況下可靠運(yùn)行, 與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比, 使用 Aston™ 的維修間隔更長. 它包括自清潔功能, 可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導(dǎo)致的污垢積累.

Aston™ 質(zhì)譜分析儀 CVD 典型應(yīng)用: Dry pump 干泵排氣在線監(jiān)測,診斷
在惡劣的 CVD 環(huán)境中, Aston™ 利用可操作的數(shù)據(jù)預(yù)測和預(yù)防因 PV-CVD 干泵引起的災(zāi)難性故障, 能夠?qū)ζ茐男愿g或沉積進(jìn)行預(yù)測建模, 優(yōu)化氮?dú)獯祾叱杀?
適用場景: 多個(gè)腔室連接到1個(gè)干泵, 高濃度的電介質(zhì)會(huì)導(dǎo)致災(zāi)難性的泵故障 (一次損失 10-100 片的晶圓)



通過使用上海伯東 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston™ 可以提高半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率, 此款質(zhì)譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進(jìn)行安裝, 也可將其加裝到已運(yùn)行的現(xiàn)有腔室, 可在短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)晶圓更高產(chǎn)量!