一、真空鍍膜機(jī)技術(shù)參數(shù)：

    鍍膜機(jī)要求為PLC控制，包括蒸鍍過程的控制、顯示裝置，可以顯示膜厚、蒸鍍時(shí)間、壓力、加熱溫度等信息；

   1. 系統(tǒng)設(shè)置和控制系統(tǒng)：

      1.1 通過PLC進(jìn)行設(shè)置和控制；

      1.2 安全性能設(shè)計(jì)符合CSA SPE-1000標(biāo)準(zhǔn)；

      1.3 設(shè)有手動(dòng)和自動(dòng)兩種鍍膜操作模式；

      1.4 系統(tǒng)集成有安全互鎖機(jī)構(gòu)和報(bào)警裝置；

      * 1.5 一體化、緊湊化設(shè)計(jì)，可獨(dú)立使用也可與手套箱集成后使用；

      1.6 不同賬戶的安全模式。

2 蒸鍍腔室：

     2.1 矩形蒸鍍腔室，尺寸不小于450mmx365mmx365mm；

     2.2 翻蓋式方腔室結(jié)構(gòu)；

     2.3 腔室拋光處理并安裝有隔離墻裝置；

3 真空系統(tǒng)：

      3.1 DS102機(jī)械泵，氣體抽速不低于4cfm；

      * 3.2 主泵普發(fā)分子泵，抽速不低于250l/s，配有Inficon Pirani真空規(guī)及計(jì)算機(jī)控制顯示功能；

      * 3.3 極限真空度：系統(tǒng)潔凈、空置時(shí)可達(dá)5x10^-7Torr ；

4.蒸發(fā)源的設(shè)計(jì)和安裝：

       4.1 系統(tǒng)安裝有4個(gè)熱阻蒸發(fā)源；

       4.2 可以實(shí)現(xiàn)兩個(gè)熱阻蒸發(fā)源之間的共蒸；

      *4.3 熱阻蒸發(fā)源的電源功率不小于2.5kW；

       4.4安裝有2個(gè)QCM鍍膜速率檢測(cè)探頭，帶有水冷裝置；

       4.5安裝有1個(gè)樣品臺(tái)擋板；

5 樣品臺(tái)的設(shè)計(jì)：

      5.1可以固定或安裝直徑100mm或4”的樣品或其它異形樣品；

      5.2樣品臺(tái)帶有可以固定安裝樣品的裝置；

      5.3 樣品臺(tái)帶有旋轉(zhuǎn)功能，可調(diào)節(jié)范圍0-50RPM；

6 鍍膜控制裝置：

      * 6.1 鍍膜操作分手動(dòng)和自動(dòng)兩種模式，能預(yù)設(shè)參數(shù)，并能將相關(guān)操作進(jìn)行儲(chǔ)存，方便以后查詢和調(diào)用，也可以導(dǎo)到電腦中進(jìn)行保存。

     6.2鍍膜控制器，可多元化設(shè)計(jì)的共蒸功能；

     6.3 SQS-310CInficon鍍膜控制軟件；

     6.4通過PLC進(jìn)行控制。

     6.5主要技術(shù)要求：膜厚探測(cè)精度0.1?，鍍膜沉積速率控制理論精度0./s，薄膜沉積速率穩(wěn)定性在1%之內(nèi)，膜厚不均勻性≤ +/-5%；