| 主要用途 |
| 1. Ion Beam Etching to fabricate micro-nanometer features in any material (metals, insulators, organics, composites, multilayers). 2. Ion Beam Surface Modification to create nanostructures, textures and smoothness. 3. Physical Vapor Deposition to build thin films and stacks by evaporation, sputtering and reactive growth. 4. Ion Beam Sputter Deposition confronts the need for upper tier thin film results, when achieving the highest quality properties and precision control is justified. |
| 優(yōu)勢 |
| Multifunctional Process Tool combines etching and deposition in one vacuum process chamber. |
| 系統(tǒng)構(gòu)成 刻蝕圖例 |
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| 應(yīng)用領(lǐng)域 |
| 1. Semiconductor 2. Nanotechnology 3. Photonics 4. Spintronics |
| 適應(yīng)的刻蝕材料 |
| 1. Noble Metals ； 2. Insulators 3. Diamond Films 4. Optical Wave Guides 5. Superconducting Materials 6. Magnetic Materials |
| 工藝能力 |
| 1. Ion Beam Etching (IBE) 2. Reactive Ion Beam Etching (RIBE) |
北京特搏萬德科技有限公司(TOPVENDOR)成立于2007年，主營硅片、砷化嫁、鍺片等半導(dǎo)體晶片，設(shè)計生產(chǎn)芯片盒、周轉(zhuǎn)卡塞等。提供半導(dǎo)體工藝加工服務(wù):鍍膜、刻蝕、切割等。代理國外半導(dǎo)體行業(yè)、光電行業(yè)的高精密加工、測量儀器和設(shè)備。硅片(氧化、低應(yīng)力SiN、鍍金/鉑/銅等金屬膜)、砷化鉞、磷化錮等IⅢI-V族晶片、鍺片等;芯片盒:1-12英寸單片晶圓盒、周轉(zhuǎn)盒、IC Tray、清洗花籃;儀器設(shè)備:金剛石劃片機、蒸發(fā)濺射儀、刻蝕沉積儀器、薄膜應(yīng)力曲率測量儀、TV、BOW、WARP等全功能全檢儀、等離子去膠機、鏡頭MTF測量儀等。自2007年成立以來，公司已經(jīng)發(fā)展成為一家研發(fā)、生產(chǎn)和銷售、進出口貿(mào)易的產(chǎn)銷結(jié)合的科技企業(yè)公司，公司集科、工、貿(mào)為一體，產(chǎn)品已經(jīng)廣泛應(yīng)用于軍、大學(xué)、科研機構(gòu)、航空航天、電子、機械、食品、醫(yī)院、包裝、模具等部門行業(yè)，為其實驗室建立、規(guī)劃、產(chǎn)品研發(fā)、檢驗提供了軟硬件支持。我們充分考慮到很多客戶對產(chǎn)品的急需性，公司投入幾百萬元，長期保持穩(wěn)定庫存?？蓵r間滿足大部分的客戶需求。由于品種齊全，質(zhì)量穩(wěn)定，服務(wù)全面，價格合理，獲得了廣大客戶及用戶的信賴。我公司追求的是更高、更穩(wěn)定的質(zhì)量、更全面的、專業(yè)的服務(wù)、更快速的應(yīng)答。
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