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PLUTO-MH等離子處理機(jī)/等離子去膠機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海沛沅儀器設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2025/7/27 9:15:31
  • 訪問次數(shù)142
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上海沛沅儀器設(shè)備有限公司專業(yè)從事等離子體應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)和相關(guān)設(shè)備、產(chǎn)品的生產(chǎn),并致力于等離子體應(yīng)用技術(shù)的市場(chǎng)推進(jìn)和產(chǎn)業(yè)化。公司由長(zhǎng)期從事等離子體應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)、多次參與國(guó)家重大科學(xué)工程研究的專家和產(chǎn)業(yè)化專家聯(lián)合創(chuàng)建,核心團(tuán)隊(duì)來自中科院應(yīng)用物理研究所、中國(guó)科技大學(xué)、上海科技大學(xué),美國(guó)橡樹嶺實(shí)驗(yàn)室歸國(guó)博士等科研機(jī)構(gòu)。公司擁有一批等離子體應(yīng)用技術(shù)方面的專家,建立起一支經(jīng)驗(yàn)豐富的融合了等離子體技術(shù)、電氣自控技術(shù)、機(jī)械設(shè)計(jì)加工和成套工程技術(shù)的精英團(tuán)隊(duì)。將團(tuán)隊(duì)本身科研技術(shù)植入到公司產(chǎn)品之中,拓展產(chǎn)品功能,提升產(chǎn)品性能和開發(fā)新的應(yīng)用領(lǐng)域。公司在等離子體領(lǐng)域已經(jīng)積累了一整套具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的系列產(chǎn)品和技術(shù),在國(guó)內(nèi)居地位,并已與國(guó)內(nèi)外眾多家大學(xué)、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)等用戶有著密切的合作關(guān)系。公司的愿景是成為等離子體應(yīng)用領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)供應(yīng)企業(yè),用科研的沉淀和應(yīng)用的創(chuàng)新,為中國(guó)的制造業(yè)崛起和化戰(zhàn)略盡自己的義務(wù)和責(zé)任。
等離子清洗機(jī)
PLUTO-MH型等離子體表面處理系統(tǒng)是針對(duì)于高校,科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。我們收集了大量客戶使用信息,分析應(yīng)用需求,將多年設(shè)計(jì)和制造經(jīng)驗(yàn)應(yīng)用于小型化,多功能的等離子體表面處理設(shè)備。無論是設(shè)計(jì)理念,零配件的選用,都傾注大量精力。針對(duì)用戶不同的需求,我們提供不同功能附件,在獲得常規(guī)性能的同時(shí),擁有表面鍍膜(涂層),刻蝕,等離子化學(xué)反應(yīng),粉體等離子體處......
PLUTO-MH等離子處理機(jī)/等離子去膠機(jī) 產(chǎn)品信息
產(chǎn)品特點(diǎn)



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1.針對(duì)于對(duì)等離子體處理有嚴(yán)苛要求的場(chǎng)合中使用,等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,兼顧物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)


2. 采用500W功率電源,自動(dòng)阻抗匹配,高功率射頻發(fā)生器可應(yīng)對(duì)各種實(shí)驗(yàn)要求,保障高能量密度和高處理效率


3. 高精度真空度控制,適應(yīng)各種處理需求


4. 316不銹鋼腔體(或者6061鋁合金),全不銹鋼管路和連接件,適用各種氣體(包含腐蝕性氣體)


5. 4.3寸工業(yè)級(jí)觸摸屏,軟件操作方便,多種參數(shù)設(shè)置和工藝組合處理模式


6. 可增加多種配件,涂覆鍍膜,電極溫度控制,等離子體強(qiáng)度控制,等離子體化學(xué)反應(yīng)等功能(如有特殊應(yīng)用,請(qǐng)咨詢銷售人員)


根據(jù)用戶需求,提供對(duì)應(yīng)等離子體處理方案和定制特殊用途設(shè)備


技術(shù)參數(shù)

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1.配置不同模塊,拓展不同應(yīng)用產(chǎn)品特點(diǎn)2.png

加熱電極模塊-溫度可控,可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性

沉積鍍膜模塊,改變表面特性:

沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性

沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性

沉積含有羥基的材料,提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果

感應(yīng)耦合模塊-感應(yīng)耦合等離子體裝置

2.氣體混合裝置

可以根據(jù)可以要求進(jìn)行混氣設(shè)計(jì)

3.氣體純化和反應(yīng)

氣體純化和使用等離子體與相關(guān)材料進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)


應(yīng)用領(lǐng)域


處理實(shí)例:玻璃片不同處理?xiàng)l件下接觸角的變化(在實(shí)際操作中,選擇合適的工藝參數(shù)尤為重要)


檢測(cè)設(shè)備:接觸角測(cè)量?jī)x 測(cè)試液體 水液滴體積 1ul

等離子設(shè)備:真空等離子表面處理機(jī)PlutoM





2.png

結(jié)論:

在氧等離子體環(huán)境下,不同功率處理后接觸角都有明顯改善,

由處理前的接近50°下降到5°以內(nèi),說明潤(rùn)濕性提高很多。

功率為140W時(shí),接觸角的改善是的;

但隨著功率增大到150W,效果反而不如140W。

3.png

結(jié)論:

在氬氣等離子體環(huán)境下,不同功率處理后接觸角都有明顯改善,

由處理前的接近50°下降到5°以內(nèi),說明潤(rùn)濕性提高很多。

功率為140W時(shí),接觸角的改善是的;

但隨著功率增大到150W,效果反而不如140W。

微信截圖_20190910105820.png

結(jié)論

在相同的氧氣氣氛和功率下,不同時(shí)間處理后的接觸角都有明顯改善,

但隨著處理時(shí)間為2min以上,處理效果并沒有提升,說明并非處理時(shí)間

越長(zhǎng)效果越好,需要根據(jù)樣品選擇的處理時(shí)間。




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