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  • PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機
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具體成交價以合同協(xié)議為準
品牌

廠商性質(zhì)

其他

型號

訪問次數(shù)

144

產(chǎn)地

上海

更新時間

2025/7/27 9:07:56

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產(chǎn)品簡介

PLUTO-F型等離子體表面處理系統(tǒng)是一款功能*的桌面型表面等離子體設備,非常適合于高校、科學研究所和企業(yè)實驗室,或者小批量生產(chǎn),需要低成本運作且高效處理的企業(yè)。它具備等離子設備幾乎所有的功能,具有較大的腔體尺寸和靈活的電極配置方式。

PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機詳細信息

產(chǎn)品特點

1. 桌面型,性能穩(wěn)定、操作簡便、使用成本極低、易于維護,高性價比。


2.小身材,有效處理面積大,可以輕松處理8寸硅片去膠等應用,可以處理203mm*203mm樣品。

尺寸.png


3.采用氣浴電極,清洗效率高。

電極.png



4.靈活的電極配置方案,最多可以處理2片8寸硅片

電極-2.jpg


5.對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和表面改性。


技術(shù)參數(shù)

1. 真空腔規(guī)格: 材質(zhì)6061-T6鋁合金 240mm*300mm*200mm

2. 電極:平板氣浴電極,材質(zhì)6061-T6鋁合金

3. 電極尺寸:205mm *205mm

4. 頻率:13.56MHz (可選配40KHz射頻等離子源)

5. 功率:0-500W連續(xù)可調(diào),精度1W,可在設備運行中隨時調(diào)整參數(shù)

6. 氣體控制:針式氣體流量閥, 60-600ml 2路氣體

7. 真空計:電偶式真空計,精度:0.01mTor

8. 控制方式:4.3寸工業(yè)控制觸摸屏,全手動控制和全自動控制兩種控制方式

控制軟件功能:界面顯示實時工作狀態(tài)


應用領域

PM應用1.jpg

PM應用2.jpg

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