華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、液晶濕制程設(shè)備、太陽能光伏設(shè)備、藍(lán)寶石加工設(shè)備的研發(fā)、技術(shù)推廣和生產(chǎn)銷售。
公司一直秉承“以質(zhì)量為生存，以創(chuàng)新求發(fā)展”的經(jīng)營(yíng)理念，不堅(jiān)持比客戶對(duì)自己的需求了解更多，以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和優(yōu)良的服務(wù)贏得了各界用戶的贊許和信賴。
華林科納公司通過與上公司的廣泛合作，目前已形成濕法清洗系統(tǒng)、刻蝕系統(tǒng)、CDS系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)的四大系列數(shù)十種型號(hào)的產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用與大規(guī)模集成電路、電力電子器件、分立器件、MEMS和太陽能電池等領(lǐng)域。
主要設(shè)備有：配液機(jī) IPA干燥機(jī) 化學(xué)品恒溫機(jī) 、化學(xué)試劑分裝機(jī)、濕法清洗系統(tǒng)、刻蝕系統(tǒng)、CDS系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)
枚葉式清洗機(jī)-華林科納
南通華林科納半導(dǎo)體-單片枚葉式洗凈裝置的特長(zhǎng)：
單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)（與浸漬.槽式比較）
1.晶片表面的微粒數(shù)非常少（到25nm可對(duì)應(yīng)）
例：附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下（0.08UM以上粒子）
（參考）槽式200個(gè)/W
2.藥液純水的消費(fèi)量少
藥液…（例）1%DHF的情況 20L/日
純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分
3.小裝置size（根據(jù)每個(gè)客戶可以定制）
液體濺射（塵埃強(qiáng)制除去）
（推薦)清洗方法
單片式裝置的Particle再附著問題
半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納；
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