EDI設(shè)備的原理：供給原水進(jìn)入EDI系統(tǒng)，主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部，而另一部分沿膜板外側(cè)流動，以洗去透出膜外的離子被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負(fù)極方向運動陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外濃縮了的離子從廢水流路中排出

EDI設(shè)備的原理：

供給原水進(jìn)入EDI系統(tǒng)，主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部，而另一部分沿膜板外側(cè)流動，以洗去透出膜外的離子

被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負(fù)極方向運動

陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外

陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外

濃縮了的離子從廢水流路中排出。

無離子水從樹脂/膜內(nèi)流出。

EDI設(shè)備簡介：

EDI又稱邊續(xù)電除鹽技術(shù)，它科學(xué)地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體，通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實現(xiàn)水中離子的定向遷移，從而達(dá)到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進(jìn)行連續(xù)再生，因此EDI制水過程不需要酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水，它具有技術(shù)、結(jié)構(gòu)緊湊、操作簡便的優(yōu)點，可廣泛應(yīng)用于電力、電子、醫(yī)藥、化工、食品和實驗室領(lǐng)域，是水處理技術(shù)的綠色革命。通常把EDI與反滲透及其它的凈水裝置結(jié)合在一起從水中去除離子。EDI組件可以連續(xù)地生產(chǎn)超純水，電阻率高達(dá)18.2Ω. cm.EDI可以連續(xù)地運行也可以間歇地運行。

EDI設(shè)備的有點：

出水水質(zhì)具有的穩(wěn)定度

能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水

模塊化生產(chǎn)，并可實現(xiàn)全自動控制

不需酸堿再生，無污水排放

不會因再生而停機(jī)

無需再生設(shè)備和化學(xué)藥品儲運

設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小

運行成本和維修成本低

運行操作簡單，運動強(qiáng)度低

電子級水是制造電子元器件工藝過程中所用的高純水。

主要用途：

n 超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗

n 電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗

n 電池產(chǎn)品的生產(chǎn)

n 半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗

n 電路板的生產(chǎn)和清洗

n 其他高科技精細(xì)產(chǎn)品的生產(chǎn)

 

產(chǎn)水水質(zhì)：分為四個級別

n EW-Ⅰ：18MΩ?cm（95%時間不低于17MΩ?cm）

n EW-Ⅱ：15MΩ?cm（95%時間不低于13MΩ?cm）

n EW-Ⅲ：12MΩ?cm

n EW-Ⅳ：0.5MΩ?cm

主要制水工藝：

n 預(yù)處理+陽床+陰床+混床（傳統(tǒng)工藝）

n 預(yù)處理+（單/雙級）反滲透+混床（傳統(tǒng)工藝）

n 預(yù)處理+（單/雙級）反滲透+EDI電除鹽（流行工藝）

n 預(yù)處理+雙級反滲透+EDI電除鹽+拋光混床（流行工藝）

設(shè)備特點：

利用膜工藝生產(chǎn)電子級水，不僅可以確保處理后的水達(dá)到中國國家電子級超純水規(guī)格 GB/T 11446.1-1997標(biāo)準(zhǔn)，而且避免了傳統(tǒng)方法可能造成的環(huán)境污染，操作復(fù)雜，并能有效地降低水處理成本。