三靶磁控濺射鍍膜機(jī)（直流電源+射頻電源）

樣品臺(tái)

濺射模式

濺射方向向上，樣品臺(tái)位于濺射靶上方；

中心頂部設(shè)置樣品架，帶一個(gè)擋板；

樣品臺(tái)

φ150mm

控制精度

±1℃

加熱范圍

室溫～500℃

可調(diào)轉(zhuǎn)速

1-20rpm可調(diào)

靶基距離可調(diào)

靶材和襯底之間的距離可以電動(dòng)調(diào)節(jié)

磁控靶槍

靶面

圓形平面靶

濺射真空

10Pa～0.2Pa

靶材直徑

50～50.8mm

靶材厚度

2～5mm

注：如果靶是磁性材料（如Fe、Co、Ni），厚度不能超過(guò)1.5mm，需要強(qiáng)磁濺射靶槍?zhuān)枰~外采購(gòu)。

絕緣電壓

>2000V

數(shù)量

2 英寸*3；每個(gè)濺射靶槍上都有擋板

電纜規(guī)格

SL-16

靶頭溫度

≤65℃

真空腔體

內(nèi)壁處理

電解拋光

腔體尺寸

φ300mm × 350mm

腔體材料

304 不銹鋼

觀察窗口

石英窗，直徑φ100mm，帶擋板

密封方法

氟橡膠密封

打開(kāi)方式

頂部開(kāi)口，氣缸輔助支架

氣體控制系統(tǒng)

流量控制

三通道質(zhì)量流量計(jì)：

氧氣：范圍0～100SCCM

氬氣：范圍0～200SCCM

氮?dú)猓悍秶?/span>0～500SCCM

（注意：為了實(shí)現(xiàn)更高的無(wú)氧環(huán)境，必須用高純度惰性氣體清潔真空室至少3次。）

氣體類(lèi)型

氬氣、氮?dú)?、氧氣和其他惰性氣體

控制閥類(lèi)型

電磁閥

控制閥靜態(tài)

常閉

測(cè)量線(xiàn)性度

±1.5% F.S

測(cè)量重復(fù)性

±0.2% F.S

測(cè)量響應(yīng)時(shí)間

≤8 seconds（T95）

工作壓力范圍

0.3MPa

閥體壓力

3MPa

工作溫度

（5～45）℃

閥體材料

不銹鋼 316L

閥體泄漏率

1×10-8Pa.m3/s

管道接頭

1/4″壓縮接頭

輸入和輸出信號(hào)

0～5V

電源

±15V（±5%）（＋15V  50mA,  －15V 200mA）

外形尺寸(mm)

130 (寬) × 102 (高) × 28 (厚)

通信接口Interface

RS485 MODBUS 協(xié)議

直流電源

電源

500W

輸出電壓

0～600V

*大輸出電流

1A

正時(shí)長(zhǎng)度

65000 S

開(kāi)始時(shí)間

1～10 S

數(shù)量

2臺(tái)

射頻電源

電源

500W

功率輸出范圍

0W-500W, 帶自動(dòng)匹配

*大反射功率

100W

RF頻率

13.56MHz+/-0.005% 穩(wěn)定性

電源穩(wěn)定性

≤5W

諧波分量

小于 -50dbc

數(shù)量

1臺(tái)

整體的極限真空

≦5×10^-5Pa

真空室增壓率

≦2.5Pa/h