桌面型雙源蒸發(fā)鍍膜儀

本小型蒸發(fā)鍍膜儀可進行真空蒸鍍，在對樣品進行蒸發(fā)鍍膜的過程中，樣品臺可進行旋轉，以獲得更均勻的薄膜。鍍膜電流*大可達60A，本型號的小型蒸發(fā)鍍膜儀應用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和部分非金屬薄膜，因此被廣泛用于電極的制備和有機物發(fā)光LED的制備。設備配有兩套蒸發(fā)源，可以通過擋板切換，實現(xiàn)對樣品的多層鍍膜。儀器體積小巧，可有效節(jié)約實驗室空間；操作簡單，對不同材料的適應性強，十分適合實驗室選購。

產品特點

1. 樣品臺可以旋轉，鍍膜效果能夠更加均勻；

2. 采用鎢絲籃為發(fā)熱源，*高溫度可達到1700℃；

3. 可向真空腔體中通入惰性氣體，對腔體進行清洗，也可通入反應氣體，進行反應蒸發(fā)鍍膜。

4. 進氣口配有針閥，用于調節(jié)進氣流量。

5. 雙蒸法源，可以實現(xiàn)多層鍍膜。

技術參數(shù)