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  • 日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000
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品牌

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其他

型號

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487

產(chǎn)地

更新時間

2021/7/20 21:07:08

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產(chǎn)品簡介

日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000,采用磁控型電極,限度地減輕對樣品的損壞。

日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000詳細信息

日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000

特點:

。采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設(shè)定加工條件
??商幚磔^厚或較大的樣品(選配件)
。記憶功能可存儲常用加工條件

規(guī)格:

項目說明
放電:類型:磁控二極管放電型(電場垂直于磁場)
電極組成:反向平行盤(嵌入磁鐵)
電壓: 0.4 kV DC(直流可變)
電流: 40 mA DC
噴鍍速率 *1():
[條件]:
壓力:7 Pa
放電電流:40 mA
標靶與樣品表面之間的距離:20 mm
Pt 靶(選配件):15 nm/min
Pt-Pd 靶(選配件):20 nm/min
Au 靶(選配件):35 nm/min
Au-Pd 靶(選配件):25 nm/min
樣品尺寸:直徑:φ60 mm
高度:20 mm
機械泵:135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2:Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
電源要求:單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸:寬度:450 mm
長度:391 mm
高度:390 mm
重量:主機:約 25 kg
機械泵:約 28 kg

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