PICOSUN P-1000 Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機

技術(shù)參數(shù)：

襯底尺寸和類型

。156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（雙面/背對背）
。高達400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（雙面/背對背）
。大批量的3D產(chǎn)品（例如：鐘表部件，珠寶，硬幣，醫(yī)療植入部件，機械部件等）
。多孔，通孔，高深寬比（HAR）樣品

工藝溫度： 50 - 500 °C

基片傳送選件：

。氣動升降（手動裝載，帶叉車forklift cart）
。全自動轉(zhuǎn)載，用工業(yè)機器人實現(xiàn)

前驅(qū)體：

。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
。前驅(qū)源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務(wù)
。8根獨立源管線，最多加載12個前驅(qū)體源

重量： 2000 kg

尺寸：(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm

選件： PICOFLOW™ 擴散增強器，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設(shè)計，與工廠軟件連接服務(wù)。

驗收標(biāo)準： 標(biāo)準設(shè)備驗收標(biāo)準為 Al2O3 工藝