PICOSUN P-300B Advanced ALD 高級原子沉積機(jī)

技術(shù)參數(shù)
。基片尺寸和類型 300mm晶圓10片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）
。200mm晶圓25+2片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）

工藝溫度 ：50 - 500 °C

基片傳送選件：。 氣動升降（手動加載）
。半自動裝載，用線性裝載器實(shí)現(xiàn)
。52片晶圓盒式全自動裝載，用真空批量Load lock實(shí)現(xiàn)

前驅(qū)體： 。液態(tài)，固態(tài)，氣態(tài)，臭氧源
。前驅(qū)源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務(wù)
。4根獨(dú)立源管線，最多加載6個(gè)前驅(qū)體源

重量 ：400 + 300 kg

尺寸： (W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm

選件 ：PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設(shè)計(jì)，與工廠軟件連接服務(wù)。

驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn) ：標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝