德 Iplas 微波等離子化學(xué)氣相沉積

詳細(xì)介紹
德國(guó) IPLAS 微波等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)（MPCVD), 通過等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率，降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶形態(tài)好的高質(zhì)量硬質(zhì)薄膜和晶體。

MPCVD是的制備大尺寸單晶金剛石有效手段之一。德國(guó)iplas公司的 CYRANNUS® 等離子技術(shù)解決了傳統(tǒng)等離子技術(shù)的局限，可以在10mbar到室壓范圍內(nèi)激發(fā)高穩(wěn)定度的等離子團(tuán)，限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動(dòng)引起的等離子體狀態(tài)的變化，從而確保單晶生長(zhǎng)的持續(xù)性，為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。

化學(xué)機(jī)理概要：

碳?xì)浠衔铮禾峁┏练e材料

氫氣：生成sp3鍵

氧：對(duì)石墨相/sp2鍵侵蝕

惰性氣體：緩沖氣體，或生成納米晶體。

適用合成材料：

大尺寸寶石級(jí)單晶鉆石

高取向度金剛石晶體

納米結(jié)晶金剛石

碳納米管/類金剛石碳（DLC）

多種等離子發(fā)生器選擇：

頻率：2.45GHz, 915MHz:

功率：1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW，5-30kW

等離子團(tuán)直徑：70mm, 145mm, 250mm, 400mm

工作其他范圍：0-1000mBar

其他應(yīng)用：

MPCVD同樣適用于平面基體，或曲面顆粒的其它硬質(zhì)材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德國(guó)iplas公司憑借幾十年在等離子技術(shù)領(lǐng)域的積累，可以為用戶提供高度定制的設(shè)備，滿足用戶不同的應(yīng)用需要。