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SI 500 等離子刻蝕機 詳細摘要： ICP-RIE SI 500 德國Sentech等離子刻蝕機, 等離子刻蝕設(shè)備SI 500使用低離子能量的電感耦合等離子體用于低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕。通過在廣...
產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時間：2021-07-13 參考價： 面議 在線留言 -
Etchlab200 經(jīng)濟型反應(yīng)離子刻蝕機(可升級) 詳細摘要： Etchlab200 德國Sentech 經(jīng)濟型反應(yīng)離子刻蝕機(可升級), 具備低成本效益高的特點，并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過載...
產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時間：2021-07-13 參考價： 面議 在線留言 -
200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) 詳細摘要： 德國Sentech 200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) ，將平行板等離子體源設(shè)計與直接負載相結(jié)合。根據(jù)其模塊化設(shè)計，Etchlab 200可以升級為更大的抽油機...
產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時間：2021-07-13 參考價： 面議 在線留言 -
PE-ALD 等離子體增強原子層沉積機 詳細摘要： PE-ALD 德國Sentech 等離子體增強原子層沉積機，是在3D結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過在工藝循環(huán)過程中在真空腔室分步...
產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時間：2021-07-13 參考價： 面議 在線留言