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詳細(xì)摘要： ICP-RIE SI 500 德國Sentech等離子刻蝕機(jī), 等離子刻蝕設(shè)備SI 500使用低離子能量的電感耦合等離子體用于低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕。通過在廣...

詳細(xì)摘要： Etchlab200 德國Sentech 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級), 具備低成本效益高的特點，并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過載...

詳細(xì)摘要： 德國Sentech 200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) ，將平行板等離子體源設(shè)計與直接負(fù)載相結(jié)合。根據(jù)其模塊化設(shè)計，Etchlab 200可以升級為更大的抽油機(jī)...

詳細(xì)摘要： PE-ALD 德國Sentech 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī)，是在3D結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過在工藝循環(huán)過程中在真空腔室分步...