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詳細(xì)摘要： RC-Ti-100小型反應(yīng)釜是由純鈦金屬制作

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-HVHP-80是一款通過CE認(rèn)證的高溫高壓管式爐，其爐管采用SS310S鎳基合金鋼管(80mmO.Dx72mmI.Dx1000mmL)爐管上...

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-60UV是一款通過CE認(rèn)證的高溫高壓管式爐，其爐管采用鎳基合金鋼管，溫度可以耐到1100℃，真空度可以達(dá)到10^-6torr，而且此款設(shè)備的...

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-Ⅱ-HVHP-80是一款通過CE認(rèn)證的雙溫區(qū)高溫高壓管式爐

詳細(xì)摘要： 技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品簡介OTF-1200X-HP-55是一款通過CE認(rèn)證的開啟式管式爐，其爐管采用無縫鎳基合金管(55mmO.Dx20mmI.Dx600mmL)

詳細(xì)摘要： GSL-1100X-III-D11-8是一款CE認(rèn)證的三溫區(qū)雙管管式爐

詳細(xì)摘要： 單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL是一款CE認(rèn)證的可滑動管式爐，配置dia3x55石英管，工作溫度達(dá)1200C

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-4-RTP-SL 滑動式RTP快速退火爐

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-III-D5-4是一款三溫區(qū)的雙管爐，其工作溫度可以達(dá)到1200℃，專門針對于用CVD方法在金屬箔上生長薄膜物質(zhì)，如石墨烯、太陽能電池的電極...

詳細(xì)摘要： 為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法（PECVD），內(nèi)爐膛表面涂有美國進(jìn)口的高溫氧化...

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等離子體氣相沉積）管式爐系統(tǒng)

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-80-II-4CV-PE-SL是一款滑動式雙溫區(qū)PECVD管式爐系統(tǒng)

詳細(xì)摘要： GSL-1700X-4-HVC是一款CE認(rèn)證的二通道高真空CVD系統(tǒng)，其爐管直徑為4英寸，它是由二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成，其工作溫度可達(dá)1600℃，極限...

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-4-III-9HV是一款CE認(rèn)證的九通道高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)，齊爐管直徑為4英寸，它是由九通道質(zhì)量流量控制器和高真空機(jī)組組成，其溫度可達(dá)1...

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-III-HVC是由OTF-1200X-III三溫區(qū)管式爐，二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成

詳細(xì)摘要： OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-單溫區(qū)管式爐，二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成

詳細(xì)摘要： GSL-1700X-F3LV是一款CE認(rèn)證的管式爐CVD系統(tǒng)，其真空泵采用雙旋片式，混氣系統(tǒng)采用三路浮子供氣系統(tǒng)，溫度可以達(dá)到1700C，真空度可達(dá)到5x10-...

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE認(rèn)證的三溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)，其管徑為80mm，采用機(jī)械泵，它是由管式爐，三路浮子流量供氣系統(tǒng)組成，其真空度...

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-80-I-F3LV是一款通過CE認(rèn)證的單溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)

詳細(xì)摘要： OTF-1200X-4-C4LVS雙管爐是一個特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計(jì),特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究