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詳細摘要： 單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL是一款CE認證的可滑動管式爐，配置dia3x55石英管，工作溫度達1200C

詳細摘要： 該儀器為可放入手套箱內(nèi)的專用電動壓片機，使樣品在特定環(huán)境保護下成型，并可以實現(xiàn)遠程控制。

詳細摘要： OTF-1200X-50-SL是一款CE認證的可滑動管式爐，配置外徑50x1000mm石英管，工作溫度達1200C

詳細摘要： OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜

詳細摘要： OTF-1200X-4-C4LVS雙管爐是一個特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑...

詳細摘要： OTF-1200X-4-RTP-SL是一種快速熱處理爐

詳細摘要： EQ-RTP1000-LV3C是一款4RTP(快速熱處理)管式爐

詳細摘要： OTF-1200X-4-RTP是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4石英管和真空法蘭，它是專為半導體或太陽能電池基片（達3）的退火而設計，采用10KW紅外燈管加熱...

詳細摘要： OTF-1200X-4-RTP-HV是一款精巧型快速熱處理管式爐(4石英管)，配有高真空系統(tǒng)（機械泵+分子泵)，帶KF-D25真空法蘭.它是專為半導體或太陽能電...

詳細摘要： KSL-1700X-H2是一款通過CE認證的高溫箱式爐，此款儀器專門針對于材料在氫氣環(huán)境或惰性氣體環(huán)境進行燒結(jié)或是退火，其溫度可高達1700℃

詳細摘要： OTF-1200X-II-HG是一款雙溫區(qū)濕度可控氫氣熱處理爐，此設備帶有兩通道氣體控制器，氣液混合罐，露點儀和氫氣探測器，此設備專門設置對材料進行濕氫處理，以...

詳細摘要： OTF-1200X-R-60HG是一款通過CE認證的氫氣雙溫區(qū)旋轉(zhuǎn)管式爐，此款儀器專門針對于材料在氫氣環(huán)境或惰性氣體環(huán)境進行燒結(jié)或是退火，也可針對于粉料的混燒，...

詳細摘要： GSL-1600X-42HG此款管式爐是專門針對于材料在氫氣環(huán)境下進行燒結(jié)，其溫度可以達到1600℃

詳細摘要： OTF-1200X-60HG氫氣管式爐是專為在氫氣條件下處理樣品，溫度可達1100℃

詳細摘要： GSL-1500X-50HG此款管式爐是專門針對于材料在氫氣環(huán)境下進行燒結(jié)，其溫度可以達到1500℃

詳細摘要： DHF-1800-40直熱式加熱爐采用氣氛保護，直接加熱樣品，或者加熱石墨模具間接加熱樣件樣品，溫度可達1800℃，具有可進行快速加熱的特點（1000℃以內(nèi)加熱...

詳細摘要： VHP-5T-4是一款電動真空平板式真空熱壓機，針對于晶片的焊接或薄膜轉(zhuǎn)移，其可處理樣品尺寸為100mmx100mm

詳細摘要： OTF-1200X80-HPV-III是一款高壓和高真空開啟式管式爐，擁有三個加熱區(qū)（每個溫區(qū)可獨立控制）

詳細摘要： TF-1200X-HP-12是一款小型高溫高壓管式爐，其爐管是采用鎳基合金鋼管，尺寸為30mmO.Dx12mmI.Dx530mmL

詳細摘要： OTF-1200X-VHP4開啟式立式爐，標配dia4石英管真空密封，20T電動壓力機