TriboLab CMP 利用其前身產(chǎn)品 （Bruker CP-4） 超過 20 年的 CMP 領(lǐng)域?qū)I(yè)知識，為業(yè)界*的 TriboLab 平臺帶來了一套完整的功能?；诒咎自O(shè)備產(chǎn)生的高精度和高可重復(fù)性使得在整個 CMP 流程中能夠進(jìn)行高效的鑒別、檢查和連續(xù)功能測試。TriboLab CMP 是市場上能夠提供廣泛的拋光壓力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、聲發(fā)射和表面溫度測量的工藝開發(fā)工具，可準(zhǔn)確、完整地描述 CMP 工藝和耗材。

用于 CMP 的小型研發(fā)規(guī)模專業(yè)系統(tǒng)

布魯克的TriboLab CMP工藝和材料表征系統(tǒng)是專為晶圓拋光工藝而設(shè)計，是具有可靠、靈活和高效的臺式設(shè)備。

• 重現(xiàn)全尺寸晶圓拋光工藝條件，無需在生產(chǎn)設(shè)備上停機
• 提供****的測量可重復(fù)性和細(xì)節(jié)檢測
• 允許在小樣品上進(jìn)行測試，比全晶圓測試節(jié)省大量成本

板載診斷系統(tǒng)可以更好地了解拋光過程

• 比市場上任何其他系統(tǒng)提供更多的瞬態(tài)拋光過程的參數(shù)
• 從接觸拋光盤開始直至整個測試過程都能收集數(shù)據(jù)
• 通過更完整、更詳細(xì)的數(shù)據(jù)實現(xiàn)早期流程開發(fā)決策

具有靈活的樣品類型、尺寸和安裝配置

• 拋光任何平面材料，幾乎能使用任何修正盤，任何拋光液，和任何拋光墊
• 輕松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圓
• 可同時安裝多個樣品，測試更靈活