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伴隨芯片制程邁入高階,微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面成為市場(chǎng)主要需求,未來(lái)3nm甚至2nm將成為行業(yè)競(jìng)相追逐的新戰(zhàn)場(chǎng),芯片廠商最為關(guān)鍵性的指標(biāo)依舊是量產(chǎn)的良品率。
無(wú)論市場(chǎng)怎么變化,在芯片的生產(chǎn)加工過(guò)程中,對(duì)于水質(zhì)的高要求是不變的,只有保證了水質(zhì)要求,才能保證芯片的良品率。為了保證生產(chǎn)出超大規(guī)模的集成電路,除高純?cè)牧?、高純氣體、高純化學(xué)藥品外,超純水也是其中關(guān)鍵的因素之一。

清洗半導(dǎo)體、芯片、電子產(chǎn)品的時(shí)候,都需要使用到電阻率為18兆歐以上的超純水,這樣的超純水幾乎不導(dǎo)電,不會(huì)影響電子產(chǎn)品的性能,同時(shí)水中幾乎不含金屬離子,不會(huì)對(duì)復(fù)雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。為此超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子半導(dǎo)體企業(yè)的基礎(chǔ)配置設(shè)施。
萊特萊德超純水設(shè)備生產(chǎn)出的超純水保證了芯片的良品率。采用雙反滲透、EDI、拋光混合床相結(jié)合的制水工藝,具有水利用率高、運(yùn)行可靠、經(jīng)濟(jì)合理等特點(diǎn)。
萊特萊德超純水設(shè)備可以連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水,設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理,其占地非常小,可以為企業(yè)節(jié)省很多空間,超純水設(shè)備在出廠前均需進(jìn)行裝置調(diào)試,所以設(shè)備故障幾率較小,日常保養(yǎng)、維修等操作都非常簡(jiǎn)單。


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