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超純水制作方法及應用領域

2025-10-21  閱讀(331)

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超純水,既將水中的導電介質幾乎去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm,或接近18.3MΩ*cm極限值(25℃)。

超純水,是一般工藝很難達到的程度,采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟,多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法,電阻率方可達18.25MΩ*cm(25℃)。


超純水1-2.jpg


超純水制作方法:

傳統(tǒng)超純水制取設備工藝流程:原水—多介質過濾器—活性炭過濾器—一級除鹽—混床—超純水

膜法超純水制取設備工藝流程:原水—超濾—反滲透—EDI—超純水

在膜法工藝中,超濾,微濾替代澄清,石英砂過濾器,活性炭過濾器,除去水中的懸浮物膠體和有機物,降低濁度,SDI,COD等,可以實現(xiàn)反滲透裝置對污水回用的安全,高效運行,以反滲透替代離子交換器脫鹽,進一步除去有機物,膠體,細菌等雜質,可以保證反滲透出水滿足EDI進水的要求,以EDI代替混床深度脫鹽,利用電而不是酸堿對樹脂再生,避免了二次污染。

超純水的應用領域:

超純水是為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其他適當?shù)某R界精細技術生產出來的水,不宜飲用。還可以在以下領域中使用:

(1)電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

(2)化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等。

(3)單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。

(4)高壓變電器的清洗等。

在電子行業(yè)中,超純水的應用十分廣泛。希望小編在以上的介紹中,讓您能更加了解超純水。

萊特萊德超純水設備采用雙反滲透、EDI、拋光混合床相結合的制水工藝,具有水利用率高、運行可靠、經濟合理等特點。萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業(yè)用純水水質TypeE-1.2,高于我國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。



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